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可_柯木

银虫 (初入文坛)

[交流] 关于磁控溅射制备In2O3薄膜颜色的问题

以下是我的工艺参数,请各位学者帮我分析一下薄膜颜色的问题。
本底真空6*10-4Pa以下,RF100w,Ar/N2流量比=4/1,气压电阻规1Pa,溅射时间2h,靶基距7cm,基片温度室温,开启自转,我做出来膜厚大概5μm,氧化铟薄膜应该是淡黄色的,我做出来是黑色的,请问怎么回事?我1000度大气退火后颜色变回淡黄色,有缺氧的原因,请问还有什么可能导致薄膜是黑色的以及你们做出来的是什么颜色?
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caoxiafei

专家顾问 (著名写手)

研发工程师-Topcon/HJT电池

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可_柯木: 金币+10 2015-03-23 16:29:39
XRD什么都正常吗?或许你稍微通O2就解决了
2楼2015-03-12 12:11:48
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winterfell

银虫 (初入文坛)

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可_柯木: 金币+10 2015-03-23 16:29:16
用氮气的原因吧,不同氧气、氮气量溅射出来的膜颜色不一样的
Nobody knows the trouble I've seen, nobody know my sorrow.
3楼2015-03-13 17:07:05
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博士第一峰

新虫 (初入文坛)

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可_柯木: 金币+10 2015-03-23 16:29:46
用的什么靶材,溅射出来的可能主要是金属单质,呈现黑色,查一下相关磁控溅射条件,是否应该在溅射过程中要打开氧气阀门?
义-勤-志-诚
4楼2015-03-14 20:58:31
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