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houhualong木虫 (正式写手)
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磁控溅射镀金属膜,SEM可以看到晶粒大小吗,还是用AFM?已有13人参与
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| 如题,磁控溅射镀金属膜,SEM可以看到晶粒大小吗,还是用AFM?我是在不同功率、不同气压下做的,想看看各个参数下的形貌有什么区别,估计低倍下受基体划痕影响较大,想通过高倍看看晶粒大小有什么变化。不知有没有这样做的虫友,传授一下经验,O(∩_∩)O谢谢。 |
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fyl1989
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【答案】应助回帖
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houhualong: 金币+5, ★★★很有帮助 2014-01-07 17:02:05
houhualong: 金币+5, ★★★很有帮助 2014-01-07 17:02:05
| 我们这两种都做过,先说SEM吧(拿TiN薄膜为例),我们是直接在Si衬底上生长TiN,正如楼上有人所说,由于薄膜表面平坦度较好,所以可能导致SEM图的Contrast较低,图像分辨的不是很清楚,但还是可以看到的晶粒的,不过这要取决于薄膜的厚度和SEM的水平了。对于AFM,这个看表明的晶粒基本是没有什么问题的(如果你只是为了看看不同条件对晶粒的影响),不过要想计算平均晶粒尺寸,还需要特定的软件,我们在做金属氧化物正交实验时发现,功率是影响晶粒大小的关键因素,而压强、靶基距、气体流量对晶粒的影响不大,可以作为对薄膜淀积的参考(仅限参考),所以,你要想观察晶粒尺寸的话,AFM和SEM都可用(推荐使用AFM),就看你AFM和SEM的水平了。PS:AFM和SEM在同样比例尺下的图可能观察到的晶粒完全不同,这很正常,因为前者是利用探针和物体表面接触反馈进行的成像,而后者是利用二次电子进行的成像,所以如果你想要进行比较,最好是在同一种表征手段下进行比较,否则可比性不大。希望对你有所帮助! |
17楼2014-01-05 10:27:52
superpdy
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2楼2014-01-02 10:07:22

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gxytju2008
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peterflyer
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