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houhualong木虫 (正式写手)
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磁控溅射镀金属膜，SEM可以看到晶粒大小吗，还是用AFM？ 已有13人参与
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| 如题，磁控溅射镀金属膜，SEM可以看到晶粒大小吗，还是用AFM？我是在不同功率、不同气压下做的，想看看各个参数下的形貌有什么区别，估计低倍下受基体划痕影响较大，想通过高倍看看晶粒大小有什么变化。不知有没有这样做的虫友，传授一下经验，O(∩_∩)O谢谢。 |
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fyl1989
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【答案】应助回帖
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houhualong: 金币+5, ★★★很有帮助 2014-01-07 17:02:05
houhualong: 金币+5, ★★★很有帮助 2014-01-07 17:02:05
| 我们这两种都做过，先说SEM吧（拿TiN薄膜为例），我们是直接在Si衬底上生长TiN,正如楼上有人所说，由于薄膜表面平坦度较好，所以可能导致SEM图的Contrast较低，图像分辨的不是很清楚，但还是可以看到的晶粒的，不过这要取决于薄膜的厚度和SEM的水平了。对于AFM，这个看表明的晶粒基本是没有什么问题的（如果你只是为了看看不同条件对晶粒的影响），不过要想计算平均晶粒尺寸，还需要特定的软件，我们在做金属氧化物正交实验时发现，功率是影响晶粒大小的关键因素，而压强、靶基距、气体流量对晶粒的影响不大，可以作为对薄膜淀积的参考（仅限参考），所以，你要想观察晶粒尺寸的话，AFM和SEM都可用（推荐使用AFM），就看你AFM和SEM的水平了。PS：AFM和SEM在同样比例尺下的图可能观察到的晶粒完全不同，这很正常，因为前者是利用探针和物体表面接触反馈进行的成像，而后者是利用二次电子进行的成像，所以如果你想要进行比较，最好是在同一种表征手段下进行比较，否则可比性不大。希望对你有所帮助！ |
17楼2014-01-05 10:27:52
superpdy
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4楼2014-01-02 11:30:21
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