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磁控溅射蒸镀硅薄膜遇到的问题 已有1人参与
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| 用磁控溅射蒸镀硅薄膜过程中，用射频交流档，设置功率150W，时间2400S，最后样品取出来后，表面出现大的裂纹，甚至出现沙粒状，与正常的均匀致密薄膜相差甚远。请教各位虫友，哪些因素会导致这种情况？之前，工程师猜测可能是基片衬底没有清洗干净，但是连续两次实验都出现了这种情况。 |
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3楼2014-07-09 22:30:04
Smallpeng
木虫 (正式写手)
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2楼2014-07-08 14:58:46
