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磁控溅射薄膜被氧化已有1人参与
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做了好久磁控溅射,镀出的膜一直被氧化 ,求各位大虾帮忙分下一下。。以下是一些信息: 1.靶材成分:FeCo 2.背景真空度:1*10e-4 ~ 5*10e-4 Pa 3.溅射气压:0.3Pa 4.直流溅射功率:60W 时间:1h 5.靶材成分正常 6.仪器捡漏正常,每次溅射都会预溅射10min,镀完后有冷却 7.因为以后要用到共溅射,故与二氧化硅同一个腔体,以前也溅射过二氧化硅,不知道有没有影响 做了好久,实在是这个问题解决不了 ![]() ,求做磁控溅射的高手点拨下。。。谢谢!! |
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2楼2013-12-14 15:05:05
3楼2013-12-14 15:09:36

4楼2013-12-14 15:19:27
5楼2013-12-14 15:24:59

6楼2013-12-14 15:43:53
7楼2014-05-23 13:15:44

8楼2014-07-04 11:33:31
xingxingac
银虫 (小有名气)
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- 专业: 金属材料表面科学与工程
9楼2014-12-18 14:03:35













,求各位大虾帮忙分下一下。。
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就是这样才让我觉得很无语啊。。