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雨小寒

新虫 (初入文坛)

[求助] 磁控溅射薄膜被氧化已有1人参与

做了好久磁控溅射,镀出的膜一直被氧化,求各位大虾帮忙分下一下。。
以下是一些信息:
1.靶材成分:FeCo
2.背景真空度:1*10e-4 ~ 5*10e-4 Pa
3.溅射气压:0.3Pa
4.直流溅射功率:60W 时间:1h
5.靶材成分正常
6.仪器捡漏正常,每次溅射都会预溅射10min,镀完后有冷却
7.因为以后要用到共溅射,故与二氧化硅同一个腔体,以前也溅射过二氧化硅,不知道有没有影响
做了好久,实在是这个问题解决不了,求做磁控溅射的高手点拨下。。。谢谢!!
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风云无敌gk

铜虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★
感谢参与,应助指数 +1
雨小寒: 金币+5, ★★★很有帮助 2013-12-15 10:47:47
我以前也做过磁控溅射,对于这种氧化,应该是二氧化硅中氧的影响,你试着把真空度再抽低点
一路风景,只愿与你走
2楼2013-12-14 15:05:05
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雨小寒

新虫 (初入文坛)

引用回帖:
2楼: Originally posted by 风云无敌gk at 2013-12-14 15:05:05
我以前也做过磁控溅射,对于这种氧化,应该是二氧化硅中氧的影响,你试着把真空度再抽低点

我试过把真空度抽到10^-5量级的,但还是被氧化了。。如果是二氧化硅的影响,该怎么解决呢?洗腔体可以么??谢谢。。
3楼2013-12-14 15:09:36
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风云无敌gk

铜虫 (小有名气)

引用回帖:
3楼: Originally posted by 雨小寒 at 2013-12-14 15:09:36
我试过把真空度抽到10^-5量级的,但还是被氧化了。。如果是二氧化硅的影响,该怎么解决呢?洗腔体可以么??谢谢。。...

可以用酒精擦洗下,同时你的基片是否经过了丙酮,酒精,超声清洗等过程,还有靶材,能不能换一下
一路风景,只愿与你走
4楼2013-12-14 15:19:27
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雨小寒

新虫 (初入文坛)

引用回帖:
4楼: Originally posted by 风云无敌gk at 2013-12-14 15:19:27
可以用酒精擦洗下,同时你的基片是否经过了丙酮,酒精,超声清洗等过程,还有靶材,能不能换一下...

靶材是全新的,经过预溅射,基片也都是经过清洗处理的。就是这样才让我觉得很无语啊。。
5楼2013-12-14 15:24:59
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风云无敌gk

铜虫 (小有名气)

引用回帖:
5楼: Originally posted by 雨小寒 at 2013-12-14 15:24:59
靶材是全新的,经过预溅射,基片也都是经过清洗处理的。就是这样才让我觉得很无语啊。。...

这样确实无语了,幸好我当初做的是氧化物,你有时间可以去研究一下这些氧的来源
一路风景,只愿与你走
6楼2013-12-14 15:43:53
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gaowei701

银虫 (初入文坛)

腔体能清洗下么,验证下是不是二氧化硅的影响,很有可能就是里面的二氧化硅太多了。
7楼2014-05-23 13:15:44
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踩不扁的小强

铁虫 (小有名气)

有没有可能是靶材之间的交叉污染?
Likewilldrawlike!
8楼2014-07-04 11:33:31
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xingxingac

银虫 (小有名气)

建议两点:
1.测一下设备的压升率,极限真空和检漏都正常不一定压升率就满足要求,有的地方还是检漏检不到的;
2.以上没问题再看是否是二氧化硅中氧的影响,单独做FeCo,二氧化硅清洗干净
9楼2014-12-18 14:03:35
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