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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 材料综合 » 科研生活 » 磁控溅射薄膜被氧化
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雨小寒

新虫 (初入文坛)

[求助] 磁控溅射薄膜被氧化已有1人参与

做了好久磁控溅射，镀出的膜一直被氧化，求各位大虾帮忙分下一下。。
以下是一些信息：
1.靶材成分：FeCo
2.背景真空度：1*10e-4 ~ 5*10e-4 Pa
3.溅射气压：0.3Pa
4.直流溅射功率：60W 时间：1h
5.靶材成分正常
6.仪器捡漏正常，每次溅射都会预溅射10min，镀完后有冷却
7.因为以后要用到共溅射，故与二氧化硅同一个腔体，以前也溅射过二氧化硅，不知道有没有影响
做了好久，实在是这个问题解决不了，求做磁控溅射的高手点拨下。。。谢谢！！
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1楼2013-12-14 10:00:14
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风云无敌gk

铜虫 (小有名气)
引用回帖:
5楼: Originally posted by 雨小寒 at 2013-12-14 15:24:59
靶材是全新的，经过预溅射，基片也都是经过清洗处理的。就是这样才让我觉得很无语啊。。...

这样确实无语了，幸好我当初做的是氧化物，你有时间可以去研究一下这些氧的来源
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一路风景，只愿与你走
6楼2013-12-14 15:43:53
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风云无敌gk

铜虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★
感谢参与，应助指数 +1
雨小寒: 金币+5, ★★★很有帮助 2013-12-15 10:47:47
我以前也做过磁控溅射，对于这种氧化，应该是二氧化硅中氧的影响，你试着把真空度再抽低点
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一路风景，只愿与你走
2楼2013-12-14 15:05:05
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雨小寒

新虫 (初入文坛)
引用回帖:
2楼: Originally posted by 风云无敌gk at 2013-12-14 15:05:05
我以前也做过磁控溅射，对于这种氧化，应该是二氧化硅中氧的影响，你试着把真空度再抽低点

我试过把真空度抽到10^-5量级的，但还是被氧化了。。如果是二氧化硅的影响，该怎么解决呢？洗腔体可以么？？谢谢。。
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3楼2013-12-14 15:09:36
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风云无敌gk

铜虫 (小有名气)
引用回帖:
3楼: Originally posted by 雨小寒 at 2013-12-14 15:09:36
我试过把真空度抽到10^-5量级的，但还是被氧化了。。如果是二氧化硅的影响，该怎么解决呢？洗腔体可以么？？谢谢。。...

可以用酒精擦洗下，同时你的基片是否经过了丙酮，酒精，超声清洗等过程，还有靶材，能不能换一下
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一路风景，只愿与你走
4楼2013-12-14 15:19:27
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