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磁控溅射薄膜被氧化 已有1人参与
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做了好久磁控溅射，镀出的膜一直被氧化 ，求各位大虾帮忙分下一下。。以下是一些信息： 1.靶材成分：FeCo 2.背景真空度：1*10e-4 ~ 5*10e-4 Pa 3.溅射气压：0.3Pa 4.直流溅射功率：60W 时间：1h 5.靶材成分正常 6.仪器捡漏正常，每次溅射都会预溅射10min，镀完后有冷却 7.因为以后要用到共溅射，故与二氧化硅同一个腔体，以前也溅射过二氧化硅，不知道有没有影响 做了好久，实在是这个问题解决不了  ，求做磁控溅射的高手点拨下。。。谢谢！！ |
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 磁控溅射靶材资料大全 | PVD镀膜类技术资料 |
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