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雨小寒

新虫 (初入文坛)

应助: 0 (幼儿园)
金币: 4.5
帖子: 7
在线: 1.7小时
虫号: 2654031
注册: 2013-09-14
专业: 电工材料特性及其应用

[求助] 磁控溅射薄膜被氧化已有1人参与

做了好久磁控溅射，镀出的膜一直被氧化

，求各位大虾帮忙分下一下。。
以下是一些信息：
1.靶材成分：FeCo
2.背景真空度：1*10e-4 ~ 5*10e-4 Pa
3.溅射气压：0.3Pa
4.直流溅射功率：60W 时间：1h
5.靶材成分正常
6.仪器捡漏正常，每次溅射都会预溅射10min，镀完后有冷却
7.因为以后要用到共溅射，故与二氧化硅同一个腔体，以前也溅射过二氧化硅，不知道有没有影响
做了好久，实在是这个问题解决不了

，求做磁控溅射的高手点拨下。。。谢谢！！

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磁控溅射靶材资料大全

PVD镀膜类技术资料

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1楼2013-12-14 10:00:14

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xingxingac

银虫 (小有名气)

应助: 0 (幼儿园)
金币: 1032.3
帖子: 62
在线: 115.5小时
虫号: 436958
注册: 2007-08-26
专业: 金属材料表面科学与工程

建议两点：
1.测一下设备的压升率，极限真空和检漏都正常不一定压升率就满足要求，有的地方还是检漏检不到的；
2.以上没问题再看是否是二氧化硅中氧的影响，单独做FeCo，二氧化硅清洗干净

9楼2014-12-18 14:03:35

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