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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 功能材料 » 功能薄膜 » 新手求助各位大师关于磁控溅射NiMn靶的问题
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pandapanx

金虫 (著名写手)

[求助] 新手求助各位大师关于磁控溅射NiMn靶的问题

我的靶材是2英寸3MM的NImn靶，成分是50：50at%的。可是老师说经过磁控溅射后长出来的薄膜可能会很大程度偏离这个值。请问怎么样可以控制NiMn元素的配比么，制备的薄膜最好控制Mn含量在45到55%左右，急啊
另外有什么书籍，参考资料啥的么。
谢谢啦，新手金币不多
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我们的童年并不一定完美,记忆也逐渐模糊,时光挡不住的匆匆流逝,这个时间上唯一的永恒是记忆所抚爱的一切
1楼 2012-10-19 10:21:50
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yswyx

专家顾问 (著名写手)
★
蒋青松: 金币+1, 鼓励交流 2012-10-21 13:33:23
《半导体制造技术》，电子工业出版社
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2楼2012-10-20 09:52:25
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静静一yi

捐助贵宾 (著名写手)

静静

【答案】应助回帖

半导体制程，半导体制造技术都不错哦
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15501697107
3楼2012-10-23 16:27:14
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小虫fys

铜虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★ ★
蒋青松: 金币+1, 鼓励交流 2012-10-31 07:56:03
pandapanx: 金币+5 2013-03-11 15:23:40
控制薄膜组分不是简单的只控制靶材成分就可以的，因为每种元素的溅射率是不同的，也就是功率不同膜的成分也会有差别，这就需要你先确定其他的工艺参数，然后慢慢的去调节靶材成分，直到达到你需要的膜层成分。
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广交志同道合的朋友
4楼2012-10-30 17:13:52
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pandapanx

金虫 (著名写手)
引用回帖:
4楼: Originally posted by 小虫fys at 2012-10-30 17:13:52
控制薄膜组分不是简单的只控制靶材成分就可以的，因为每种元素的溅射率是不同的，也就是功率不同膜的成分也会有差别，这就需要你先确定其他的工艺参数，然后慢慢的去调节靶材成分，直到达到你需要的膜层成分。

哦，多谢，我现在没有条件去调节靶材成分，只是买了一种，只能去调节工艺参数了
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我们的童年并不一定完美,记忆也逐渐模糊,时光挡不住的匆匆流逝,这个时间上唯一的永恒是记忆所抚爱的一切
5楼2012-11-01 09:42:27
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taolp

金虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

如楼上，Ar气对不同金属的溅射产额不同，前人已做过数据收集，可以参考田明波《薄膜技术与薄膜材料》
要把配比控制的较为精确的话，可以采用多靶共溅射的方法，如果腔室内有多个靶位，一个Ni靶一个Mn靶足矣，比你每次重新压制靶材要省钱省力的多。
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I'll be back
6楼2012-11-19 14:19:01
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