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fpei_csu

银虫 (小有名气)

[求助] 阴极弧蒸发和磁控溅射的本质区别是什么啊？

阴极弧蒸发和磁控溅射的本质区别是什么啊？
还有打弧的主要原因都有哪些呢
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1楼2013-07-16 09:28:15
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夏南

金虫 (正式写手)

深度强迫症患者

【答案】应助回帖

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fpei_csu: 金币+5 2013-07-16 14:25:07
我的理解是  前者是靠弧光加热使靶材蒸发，沉积在基体表面的原理镀膜的。
后者是在氩离子的轰击下，靶材中的原子或者原子集团被轰击出来，在磁场的作用下沉积在基体表面的。

打弧主要是瞬时电流过大的放电现象，我个人的理解是相当于尖端放电，如果材料表面有些不干净的东西，如氧化皮等，在加电压以后会产生打弧现象，不过打一会就好了，除非短路了，不然不会一直打弧的。

只是个人见解。
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fpei_csu
假装文艺青年的科技工作者。
2楼2013-07-16 14:18:02
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fpei_csu

银虫 (小有名气)
送红花一朵
引用回帖:
2楼: Originally posted by 夏南 at 2013-07-16 14:18:02
我的理解是  前者是靠弧光加热使靶材蒸发，沉积在基体表面的原理镀膜的。
后者是在氩离子的轰击下，靶材中的原子或者原子集团被轰击出来，在磁场的作用下沉积在基体表面的。

打弧主要是瞬时电流过大的放电现象， ...

阴极弧蒸发时常会有打弧现象，因为有高电流
那磁控溅射也会有打弧现象吗？磁控溅射没有高电流吧
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3楼2013-07-16 14:26:55
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夏南

金虫 (正式写手)

深度强迫症患者
引用回帖:
2楼: Originally posted by 夏南 at 2013-07-16 14:18:02
我的理解是  前者是靠弧光加热使靶材蒸发，沉积在基体表面的原理镀膜的。
后者是在氩离子的轰击下，靶材中的原子或者原子集团被轰击出来，在磁场的作用下沉积在基体表面的。

打弧主要是瞬时电流过大的放电现象， ...

不知道你指的是靶材还是基体会打弧。
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假装文艺青年的科技工作者。
4楼2013-07-16 18:43:47
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