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新手求助各位大师关于磁控溅射NiMn靶的问题
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我的靶材是2英寸3MM的NImn靶，成分是50：50at%的。可是老师说经过磁控溅射后长出来的薄膜可能会很大程度偏离这个值。请问怎么样可以控制NiMn元素的配比么，制备的薄膜最好控制Mn含量在45到55%左右，急啊 另外有什么书籍，参考资料啥的么。 谢谢啦，新手金币不多 |
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4楼2012-10-30 17:13:52
yswyx 
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2楼2012-10-20 09:52:25
静静一yi
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半导体制程，半导体制造技术都不错哦 3楼2012-10-23 16:27:14
5楼2012-11-01 09:42:27
