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wmz1021

木虫 (正式写手)

[交流] 磁控溅射中如何用氩离子轰击基片已有9人参与

在磁控溅射做薄膜的时候想在溅射金属之前预先用氩离子轰击基片, 请问这样如何操作, 用不用加偏压呢?

已删

[ Last edited by wmz1021 on 2017-12-11 at 21:17 ]
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wangshaobin

新虫 (初入文坛)


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两个方案
1、正规:加一套偏压系统,通俗讲就是把金属片当成靶,启靶又起不来;
2、不正规:把片子绑在靶上,紧密接触,多加氩气启靶,让靶憋着起来,也能起到清洗作用。
我估计你是因为金属底片镀膜后,膜层附着力差,才想到轰击办法,如果这样,最好用第一种办法。
9楼2014-03-13 11:29:05
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普通回帖

zhonghua210

木虫 (正式写手)


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chemlh: 欢迎积极交流 2014-03-04 17:41:23
氩离子轰击基片?不太明白,是不是轰击靶材?这样是需要加偏压的,预溅射时可以不用打开挡板即可!
好好学习,天天向上
2楼2014-03-04 13:21:09
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wmz1021

木虫 (正式写手)

引用回帖:
2楼: Originally posted by zhonghua210 at 2014-03-04 13:21:09
氩离子轰击基片?不太明白,是不是轰击靶材?这样是需要加偏压的,预溅射时可以不用打开挡板即可!

不是轰击靶材, 因为用PI做衬底, 是想用Ar离子预先轰击下用来做衬底的PI,这样沉底上更清洁, 不知道怎么操作,请指教
3楼2014-03-04 13:25:44
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rsbc2013

银虫 (初入文坛)


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改变偏压方向,看设备是否带着个功能了
4楼2014-03-05 08:31:40
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钦点木瓜

金虫 (著名写手)


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有的磁控溅射有清洗基片的功能,这个是可以进行你想要的操作。
用绳命来搞科研
5楼2014-03-05 14:08:17
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hare50

金虫 (小有名气)


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看看设备是否带着个功能。
6楼2014-03-07 10:19:42
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尘隐土

木虫 (正式写手)

贫困区


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你说的是等离子清洗,不叫磁控溅射,要加偏压
7楼2014-03-07 10:48:53
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sxd583296932

木虫 (著名写手)

太阳能研究所


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我做的也是磁控溅射!!!做的是氧化物!!!

[ 发自小木虫客户端 ]
花开花落花满天,情来情去情随缘!
8楼2014-03-07 11:15:00
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匿名

用户注销 (正式写手)


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本帖仅楼主可见
10楼2014-03-31 17:44:27
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