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wmz1021

木虫 (正式写手)

[交流] 磁控溅射中如何用氩离子轰击基片 已有9人参与

在磁控溅射做薄膜的时候想在溅射金属之前预先用氩离子轰击基片, 请问这样如何操作, 用不用加偏压呢?

已删

[ Last edited by wmz1021 on 2017-12-11 at 21:17 ]
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rsbc2013

银虫 (初入文坛)

★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
改变偏压方向,看设备是否带着个功能了
4楼2014-03-05 08:31:40
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查看全部 12 个回答

zhonghua210

木虫 (正式写手)

★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
chemlh: 欢迎积极交流 2014-03-04 17:41:23
氩离子轰击基片?不太明白,是不是轰击靶材?这样是需要加偏压的,预溅射时可以不用打开挡板即可!
好好学习,天天向上
2楼2014-03-04 13:21:09
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wmz1021

木虫 (正式写手)

引用回帖:
2楼: Originally posted by zhonghua210 at 2014-03-04 13:21:09
氩离子轰击基片?不太明白,是不是轰击靶材?这样是需要加偏压的,预溅射时可以不用打开挡板即可!

不是轰击靶材, 因为用PI做衬底, 是想用Ar离子预先轰击下用来做衬底的PI,这样沉底上更清洁, 不知道怎么操作,请指教
3楼2014-03-04 13:25:44
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钦点木瓜

金虫 (著名写手)

★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
有的磁控溅射有清洗基片的功能,这个是可以进行你想要的操作。
用绳命来搞科研
5楼2014-03-05 14:08:17
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