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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 功能材料 » 设计与制备 » 磁控溅射中如何用氩离子轰击基片
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wmz1021

木虫 (正式写手)
引用回帖:
10楼: Originally posted by TaoGG at 2014-03-31 17:44:27
不知道你用的是不是外加的离子源清洗，是的话再看看是霍尔还是考夫曼的离子源，参数可查，我也有，就不知道你是不是。

没有外加的离子源, 谢谢
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11楼2014-04-01 09:48:39
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dxy536

铜虫 (初入文坛)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
我也是用的PI基片，能不能问一下你的膜厚是怎么测的呢？
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12楼2015-10-26 10:59:46
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