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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 功能材料 » 设计与制备 » 磁控溅射中如何用氩离子轰击基片
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wmz1021

木虫 (正式写手)

[交流] 磁控溅射中如何用氩离子轰击基片 已有9人参与

在磁控溅射做薄膜的时候想在溅射金属之前预先用氩离子轰击基片, 请问这样如何操作, 用不用加偏压呢?

已删

[ Last edited by wmz1021 on 2017-12-11 at 21:17 ]
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1楼 2014-03-04 13:07:20
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尘隐土

木虫 (正式写手)

贫困区
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
你说的是等离子清洗，不叫磁控溅射，要加偏压
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7楼2014-03-07 10:48:53
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zhonghua210

木虫 (正式写手)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
chemlh: 欢迎积极交流 2014-03-04 17:41:23
氩离子轰击基片？不太明白，是不是轰击靶材？这样是需要加偏压的，预溅射时可以不用打开挡板即可！
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好好学习，天天向上
2楼2014-03-04 13:21:09
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wmz1021

木虫 (正式写手)
引用回帖:
2楼: Originally posted by zhonghua210 at 2014-03-04 13:21:09
氩离子轰击基片？不太明白，是不是轰击靶材？这样是需要加偏压的，预溅射时可以不用打开挡板即可！

不是轰击靶材, 因为用PI做衬底, 是想用Ar离子预先轰击下用来做衬底的PI,这样沉底上更清洁, 不知道怎么操作,请指教
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3楼2014-03-04 13:25:44
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rsbc2013

银虫 (初入文坛)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
改变偏压方向，看设备是否带着个功能了
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4楼2014-03-05 08:31:40
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