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god1999

金虫 (小有名气)

[求助] 江湖救急。磁控溅射的膜厚测量问题!

我用磁控溅射的方法制备的是硅薄膜和钛薄膜的交替样品,就是一层硅一层钛,总层数大约是60层,但不知道怎么测这样的膜厚。每一层的膜厚大概是50nm-1μm之间不等,求大侠指教。
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wangya705

禁虫 (小有名气)


感谢参与,应助指数 +1
zyz666888: 金币+1, 感谢参与,欢迎常来! 2013-02-26 22:04:22
本帖内容被屏蔽

5楼2013-02-26 18:48:51
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god1999

金虫 (小有名气)

自己顶一个
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2楼2013-02-26 15:58:14
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avad

铁杆木虫 (著名写手)

【答案】应助回帖


感谢参与,应助指数 +1
zyz666888: 金币+1, 感谢参与,欢迎常来! 2013-02-26 22:05:01
一般是TEM。
这个要准确测量还是比较难的。
不如归去
4楼2013-02-26 18:30:57
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god1999

金虫 (小有名气)

引用回帖:
5楼: Originally posted by wangya705 at 2013-02-26 18:48:51
SEM可以测量,如果膜厚再大的话光学显微镜也是可以测量的。不过精确度可能有点偏差,将试样打磨之后更易于测量。

SEM一般很难看到50nm的切面,我试过,结果看不出明暗相间的条纹,只是模糊的一片,我用的是载玻片或者厚度为15微米的铜箔,怎么进行打磨。求指教。
ps:我曾用过环氧树脂进行固化,但是环氧树脂将我镀的膜给泡掉了,有更好的方法吗?
新手,求帮助
6楼2013-02-27 12:27:25
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