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meteorabob

铜虫 (正式写手)

应助: 23 (小学生)
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[交流] 请教磁控溅射的气压和功率对薄膜质量的作用，谢谢！

请问磁控溅射时，气压和功率的大小与生长的薄膜质量的关系是什么？
还有一个问题是：功率大小对应磁控溅射中的哪一个条件？是Ar+离子的速度？还是Ar+离子的数量？
谢谢大家！

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1楼2012-05-02 10:29:56

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neu234

木虫之王 (文学泰斗)

应助: 33 (小学生)
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虫号: 591252

★ ★
meteorabob(金币+1): 谢谢参与
蒋青松: 金币+1, 鼓励交流 2012-06-30 09:18:49

应该是Ar+离子的速度

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