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磁控溅射氧化钒,高温还原得到VO2遇到的问题
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jintianly
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磁控溅射氧化钒,高温还原得到VO2遇到的问题
已有2人参与
我采用直流反应磁控溅射,以单质V为靶材,通氧气溅射成高价态V2O5,然后高温还原得到VO2,之前这种方法是可行的,后来靶间距增大后就怎么也得不到VO2了,采用很高的退火温度也没办法还原了,请问这是为什么呀
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2014-01-07 18:21:04
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2014-01-07 19:04:33
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楼主的意思是靶距增大后溅射得到的V2O5膜在随后的高温退火中保持稳定,不再被还原为低价的VO2了,是这样吗?楼主的高温退火是只是高温,还是还伴随通氢气或其他还原性气体呢?那楼主确信得到的仍旧是V2O5膜而不是其他的呢?
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3楼
2014-01-07 19:08:15
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3楼
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Originally posted by
peterflyer
at 2014-01-07 19:08:15
楼主的意思是靶距增大后溅射得到的V2O5膜在随后的高温退火中保持稳定,不再被还原为低价的VO2了,是这样吗?楼主的高温退火是只是高温,还是还伴随通氢气或其他还原性气体呢?那楼主确信得到的仍旧是V2O5膜而不是其 ...
是的,不能讲其还原成VO2了。XRD结果表明是V6O11或者V6O13(V氧化物太多,不好确定),但得不到VO2。我在真空(10的-4次方Pa)以及Ar环境(270Pa)下不同温度都尝试过,就是得不到VO2。
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镀膜的物理生
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2014-01-07 21:38:45
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2014-01-07 21:41:12
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4楼
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jintianly
at 2014-01-07 21:38:45
是的,不能讲其还原成VO2了。XRD结果表明是V6O11或者V6O13(V氧化物太多,不好确定),但得不到VO2。我在真空(10的-4次方Pa)以及Ar环境(270Pa)下不同温度都尝试过,就是得不到VO2。...
楼主的意思是说,要么过氧化了,要么欠氧化了,正好没有想要的,对吗?我的理解V6O11欠氧化,V6O13过氧化,这样理解对吗?
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2014-01-07 22:39:38
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楼主的意思是说,要么过氧化了,要么欠氧化了,正好没有想要的,对吗?我的理解V6O11欠氧化,V6O13过氧化,这样理解对吗?...
是的。今天有老师提醒,可能不是把间距的问题,有可能是因为靶中毒。我想在靶中毒情况下溅射氧化钒薄膜,不过试了一下午都不行,明天再试试。
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镀膜的物理生
7楼
2014-01-08 23:04:48
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没下文了么
到底试出来没有啊
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2014-04-13 18:39:58
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鲸鱼先生
at 2014-04-13 18:39:58
没下文了么
到底试出来没有啊
后来没继续做了,换了方法,效果还好。
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镀膜的物理生
9楼
2014-04-16 17:12:19
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ljlaser
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9楼
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Originally posted by
jintianly
at 2014-04-16 17:12:19
后来没继续做了,换了方法,效果还好。...
直接用 VO2靶材 来做
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10楼
2014-05-19 22:10:31
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