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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 学术交流 » 磁控溅射氧化钒，高温还原得到VO2遇到的问题
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jintianly

铜虫 (小有名气)
引用回帖:
10楼: Originally posted by ljlaser at 2014-05-19 22:10:31
直接用 VO2靶材 来做...

VO2做不成靶，是粉末的
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镀膜的物理生
11楼2014-05-22 18:30:53
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jintianly

铜虫 (小有名气)
引用回帖:
10楼: Originally posted by ljlaser at 2014-05-19 22:10:31
直接用 VO2靶材 来做...

后来发现退火还原方法太不稳定，还是直接加450℃以上的基底温度，精确控制氧流量做更稳定。
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镀膜的物理生
12楼2014-05-22 18:31:59
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锡伯

银虫 (正式写手)
引用回帖:
7楼: Originally posted by jintianly at 2014-01-08 23:04:48
是的。今天有老师提醒，可能不是把间距的问题，有可能是因为靶中毒。我想在靶中毒情况下溅射氧化钒薄膜，不过试了一下午都不行，明天再试试。...

靶中毒可以用射频溅射吧？ 你用直流还是射频？
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立场坚定，斗志强
13楼2014-09-26 09:02:50
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alligator666

木虫 (小有名气)
我也打算金属靶溅射制二氧化钒薄膜，能问下楼主你制出来的薄膜多厚是什么颜色的么
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14楼2016-03-10 14:26:01
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