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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 学术交流 » 磁控溅射氧化钒，高温还原得到VO2遇到的问题
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jintianly

铜虫 (小有名气)

[求助] 磁控溅射氧化钒，高温还原得到VO2遇到的问题 已有2人参与

我采用直流反应磁控溅射，以单质V为靶材，通氧气溅射成高价态V2O5，然后高温还原得到VO2，之前这种方法是可行的，后来靶间距增大后就怎么也得不到VO2了，采用很高的退火温度也没办法还原了，请问这是为什么呀
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镀膜的物理生
1楼 2014-01-07 18:21:04
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锡伯

银虫 (正式写手)
引用回帖:
7楼: Originally posted by jintianly at 2014-01-08 23:04:48
是的。今天有老师提醒，可能不是把间距的问题，有可能是因为靶中毒。我想在靶中毒情况下溅射氧化钒薄膜，不过试了一下午都不行，明天再试试。...

靶中毒可以用射频溅射吧？ 你用直流还是射频？
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立场坚定，斗志强
13楼2014-09-26 09:02:50
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peterflyer

木虫之王 (文学泰斗)

peterflyer

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
楼主的意思是靶距增大后溅射得到的V2O5膜在随后的高温退火中保持稳定，不再被还原为低价的VO2了，是这样吗？楼主的高温退火是只是高温，还是还伴随通氢气或其他还原性气体呢？那楼主确信得到的仍旧是V2O5膜而不是其他的呢？
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3楼2014-01-07 19:08:15
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jintianly

铜虫 (小有名气)
引用回帖:
3楼: Originally posted by peterflyer at 2014-01-07 19:08:15
楼主的意思是靶距增大后溅射得到的V2O5膜在随后的高温退火中保持稳定，不再被还原为低价的VO2了，是这样吗？楼主的高温退火是只是高温，还是还伴随通氢气或其他还原性气体呢？那楼主确信得到的仍旧是V2O5膜而不是其 ...

是的，不能讲其还原成VO2了。XRD结果表明是V6O11或者V6O13（V氧化物太多，不好确定），但得不到VO2。我在真空（10的-4次方Pa）以及Ar环境（270Pa）下不同温度都尝试过，就是得不到VO2。
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镀膜的物理生
4楼2014-01-07 21:38:45
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jintianly

铜虫 (小有名气)
引用回帖:
2楼: Originally posted by phyzlc at 2014-01-07 19:04:33
我也想知道

你也遇到过这样？
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镀膜的物理生
5楼2014-01-07 21:41:12
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