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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 专业学科区 » 物理 » 凝聚态物理 » 【求助】请教为什么有人用磁控溅射金属膜用的是射频电源
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freeren896

木虫 (小有名气)

[交流] 【求助】请教为什么有人用磁控溅射金属膜用的是射频电源

请教为什么有人用磁控溅射金属膜用的是射频电源
金属溅射不是用直流吗，射频不是氧化物才用吗？
是不是用射频镀金属膜比用直流好呀？
谢谢
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1楼 2011-03-15 22:03:50
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greenhaw

金虫 (初入文坛)
★
freeren896(金币+1):谢谢参与
DC容易产生arc，制备膜层速率相对RF偏快，RF制备金属膜层速率较慢，膜层致密。
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14楼2011-06-25 13:43:34
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lulinsmann

木虫 (著名写手)
★
freeren896(金币+1):谢谢参与
freeren896(金币+1): 2011-03-16 12:58:25
没有谁规定金属必须用直流吧？倒是绝缘体必须用射频。
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2楼2011-03-15 22:18:27
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211985:mad:

木虫 (著名写手)
★
freeren896(金币+1):谢谢参与
直流容易将小舟烧坏
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3楼2011-03-15 23:53:01
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jjwl_rscn

金虫 (正式写手)
★
freeren896(金币+1):谢谢参与
金币送我的？？
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5楼2011-03-19 16:19:10
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parklyn11楼
2011-06-12 14:07   回复  
freeren896(金币+1):谢谢参与
引用回帖:
Originally posted by songxiao111 at 2011-06-10 15:18:21: 1、因为射频使用的是13.5MHz的射频电源，溅射材料的种类较多，涉及到金属及非金属和各类氧化物。 2、射频溅射的速率一般而言较直流溅射速率低，且有功率匹配，更容易精确控制生长过程，科研制模选择射频较好，工 ...

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