【锡碳材料】通过氧等离子体球磨一步制备Sn@SnOx/C纳米复合材料
201214760216
一段话了解全文采用介质阻挡放电氧等离子体辅助研磨(O2-P-milling)一步法合成氧化锡包覆石墨(SnSnOx/C)纳米复合材料。所得复合材料具有独特的微观结构,超薄...
微米纳米
- 800
- 16
有关于接触式曝光机和平行光曝光机的疑问?
rainbow0912
我是光刻小白,一直有个疑问:类似于做PCB的那种平行光曝光机和一般用于做MEMS的接触式光刻机有什么区别?都是汞灯紫外线平行通过掩膜版(菲林)进行曝光,那他们的本质差异是什么呀?望清楚的大神指点一下!
微米纳米
- 150
- 3
京公网安备 11010802022153号