关于光刻胶选择的问题，请教一下前辈们
准备制作微结构材料，要直接用显影后的光刻胶硅片做阴模，微结构尺寸20微米，高度10微米，间距3微米，是用su-8还是AZ好一些呢？主要是精度要够。
返回小木虫查看更多
今日热帖
猜你喜欢
板块导航
- 网络生活
- 资源共享
- 化学化工
- 专业学科
- 科研生活
- 生物医药
- 材料
- 计算模拟
- 学术交流
- 出国留学
- 注册执考
24小时热帖
换一批
- 下载小木虫APP
- 与700万科研达人随时交流
-
二维码
-
IOS
-
安卓
京公网安备 11010802022153号
都没问题！AZ陡直度差点！
我觉得没有问题，深宽比也只有3！您是间距3，又不是留下来3！精准控制就看工艺了
也不说做不到，相对很难！毕竟正胶！我7u直径22u高柱子是做过！但是同比降下来还没试过！
，