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磁控溅射镀氧化钛薄膜不结晶
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ykelikelie
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磁控溅射镀氧化钛薄膜不结晶
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靶材为纯金属钛靶,没有加热玻璃基片,用射频溅射的参数是:功率220W,时间2小时,氧气2sccm,氩气40sccm,压强0.6pa,600℃退火1小时,靶间距8cm,xrd结果是非晶态的,换用直流溅射时在450℃退火1小时,其他参数都一样,xrd结果仍然是非晶态的,但玻璃表面可以看到有膜,为什么没有结晶呢?想请虫友帮忙解答一下。
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1楼
2015-03-25 17:06:15
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专业: 金属材料的力学行为
请问下那个膜的结晶性不好,怎么控制
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6楼
2015-11-12 10:36:43
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ykelikelie
木虫
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专业: 数论
刚看到xrd结果,还是有结晶峰的,帖子结了吧。
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2楼
2015-03-25 18:20:41
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dwysd
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专业: 半导体材料
【答案】应助回帖
★ ★ ★ ★ ★
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ykelikelie(ivansdk代发): 金币+5
2015-03-26 09:43:14
首先要确定薄膜厚度,如果太薄了,是不行的。
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3楼
2015-03-25 21:15:37
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xsz2013
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2楼
:
Originally posted by
ykelikelie
at 2015-03-25 18:20:41
刚看到xrd结果,还是有结晶峰的,帖子结了吧。
请问为什么突然就有结晶峰了呢?之前自己观测手段的问题?膜厚多大呢?谢谢
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4楼
2015-03-26 15:37:54
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