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磁控溅射镀膜
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磁控溅射镀膜
磁控溅射镀膜,先镀铬,在镀钛,最后镀银,刚开始镀上的膜附着力很好,但是摆放时间长了,膜的附着力就降低了,这是为什么?请大家从基本理论上给一些研究思路。
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若我离去,后会无期!
1楼
2013-10-03 22:29:32
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2楼
:
Originally posted by
vincentwz
at 2013-10-04 14:14:56
不确定原因,只是两点想法:
1. 各层膜之间是不是较好的附着
2. 会不会和应力有关,镀膜的时候由于沉积参数的关系致使薄膜的残余应力较大,时间长了应力释放就导致薄膜脱落
另外楼主说的时间长了是多长?溅渡时 ...
一般放3周左右就不行了。请问对于这种情况可以用热处理的方法的释放应力吗?溅射是原味的,应该不会有杂志的。
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若我离去,后会无期!
4楼
2013-10-09 23:01:30
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2013-10-09 22:59:42
不确定原因,只是两点想法:
1. 各层膜之间是不是较好的附着
2. 会不会和应力有关,镀膜的时候由于沉积参数的关系致使薄膜的残余应力较大,时间长了应力释放就导致薄膜脱落
另外楼主说的时间长了是多长?溅渡时是原位吗,会不会在薄膜之间引入杂质或者氧化层?
[ 发自手机版 http://muchong.com/3g ]
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2楼
2013-10-04 14:14:56
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2013-10-09 23:03:43
ls说的不错,另外还需要问lz各层的厚度选择,如果很薄质量要求很高,建议用MOCVD
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3楼
2013-10-05 12:19:21
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3楼
:
Originally posted by
思凡的沙弥
at 2013-10-05 12:19:21
ls说的不错,另外还需要问lz各层的厚度选择,如果很薄质量要求很高,建议用MOCVD
膜的厚度不同会造成什么影响呢?有什么准则吗?学校只有pvd,没有别的,所以暂时只能用这个。
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若我离去,后会无期!
5楼
2013-10-09 23:03:36
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