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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 专业学科区 » 物理 » 其他交流 » 关于金属靶磁控溅射问题
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miaobotong

铜虫 (小有名气)

[交流] 关于金属靶磁控溅射问题

我在用射频磁控溅上金属膜时，基材是单晶硅，功率40w，但是镀不上膜，而且靶罩变成了黑色，不知是什么原因？麻烦各位给些建议，谢谢！
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1楼 2013-06-18 16:41:03
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miaobotong

铜虫 (小有名气)
引用回帖:
8楼: Originally posted by leongoall at 2013-06-20 02:09:03
不同的靶材，镀膜速率当然不同！因为氩离子在轰击不同靶材的表面时，很多参数都跟着变，如溅射能量、反射系数等！...

如果同样是金属靶，比如铜或铝或金是不是相差的不会很多呢？
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10楼2013-06-20 09:37:22
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南大仪器

木虫 (小有名气)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
磁控溅射方面也想学习哈子！
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3楼2013-06-18 22:36:57
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leongoall

专家顾问 (知名作家)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
1. 靶罩是指外面的挡板吗？如果是，请检查镀膜过程中挡板是否成功打开。

2. 40W的射频功率建立起来的靶上的偏压是多少？是否确定溅射能够发生？
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4楼2013-06-19 03:16:48
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miaobotong

铜虫 (小有名气)
引用回帖:
4楼: Originally posted by leongoall at 2013-06-19 03:16:48
1. 靶罩是指外面的挡板吗？如果是，请检查镀膜过程中挡板是否成功打开。

2. 40W的射频功率建立起来的靶上的偏压是多少？是否确定溅射能够发生？

靶罩是在靶材的外面，不是基片挡板，已经起辉了，偏压是600v。但是不知道是什么原因，谢谢您
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5楼2013-06-19 09:38:46
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