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北京石油化工学院2026年研究生招生接收调剂公告
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miaobotong

铜虫 (小有名气)


[交流] 关于金属靶磁控溅射问题

我在用射频磁控溅上金属膜时,基材是单晶硅,功率40w,但是镀不上膜,而且靶罩变成了黑色,不知是什么原因?麻烦各位给些建议,谢谢!
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miaobotong

铜虫 (小有名气)


引用回帖:
4楼: Originally posted by leongoall at 2013-06-19 03:16:48
1. 靶罩是指外面的挡板吗?如果是,请检查镀膜过程中挡板是否成功打开。

2. 40W的射频功率建立起来的靶上的偏压是多少?是否确定溅射能够发生?

靶罩是在靶材的外面,不是基片挡板,已经起辉了,偏压是600v。但是不知道是什么原因,谢谢您
5楼2013-06-19 09:38:46
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南大仪器

木虫 (小有名气)



小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
磁控溅射方面也想学习哈子!
3楼2013-06-18 22:36:57
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小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
1. 靶罩是指外面的挡板吗?如果是,请检查镀膜过程中挡板是否成功打开。

2. 40W的射频功率建立起来的靶上的偏压是多少?是否确定溅射能够发生?
4楼2013-06-19 03:16:48
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小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
能否具体说说你是用什么气体,什么靶材想镀什么膜不?太粗泛了真不好分析!
6楼2013-06-19 13:13:56
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