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miaobotong

铜虫 (小有名气)


[交流] 关于金属靶磁控溅射问题

我在用射频磁控溅上金属膜时,基材是单晶硅,功率40w,但是镀不上膜,而且靶罩变成了黑色,不知是什么原因?麻烦各位给些建议,谢谢!
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引用回帖:
7楼: Originally posted by miaobotong at 2013-06-19 07:07:27
我用氩气,铝靶或铜靶,在硅片上镀膜。另外,我想请问一下,对于不同的靶材,用相同的仪器,镀膜速率相同吗?...

不同的靶材,镀膜速率当然不同!因为氩离子在轰击不同靶材的表面时,很多参数都跟着变,如溅射能量、反射系数等!
8楼2013-06-20 02:09:03
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南大仪器

木虫 (小有名气)



小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
磁控溅射方面也想学习哈子!
3楼2013-06-18 22:36:57
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小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
1. 靶罩是指外面的挡板吗?如果是,请检查镀膜过程中挡板是否成功打开。

2. 40W的射频功率建立起来的靶上的偏压是多少?是否确定溅射能够发生?
4楼2013-06-19 03:16:48
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miaobotong

铜虫 (小有名气)


引用回帖:
4楼: Originally posted by leongoall at 2013-06-19 03:16:48
1. 靶罩是指外面的挡板吗?如果是,请检查镀膜过程中挡板是否成功打开。

2. 40W的射频功率建立起来的靶上的偏压是多少?是否确定溅射能够发生?

靶罩是在靶材的外面,不是基片挡板,已经起辉了,偏压是600v。但是不知道是什么原因,谢谢您
5楼2013-06-19 09:38:46
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