应《网络安全法》要求，自2017年10月1日起，未进行实名认证将不得使用互联网跟帖服务。为保障您的帐号能够正常使用，请尽快对帐号进行手机号验证，感谢您的理解与支持！

24小时热门版块排行榜    

小木虫论坛-学术科研互动平台 » 专业学科区 » 物理 » 其他交流 » 关于金属靶磁控溅射问题
51/1返回列表
查看: 2259  |  回复: 13
只看楼主 @他人 存档 新回复提醒 (忽略) 收藏    在APP中查看
当前只显示满足指定条件的回帖，点击这里查看本话题的所有回帖

miaobotong

铜虫 (小有名气)

[交流] 关于金属靶磁控溅射问题

我在用射频磁控溅上金属膜时，基材是单晶硅，功率40w，但是镀不上膜，而且靶罩变成了黑色，不知是什么原因？麻烦各位给些建议，谢谢！
回复此楼

» 猜你喜欢

» 本主题相关价值贴推荐，对您同样有帮助:

» 抢金币啦！回帖就可以得到:

查看全部散金贴
1楼 2013-06-18 16:41:03
已阅   回复此楼   关注TA 给TA发消息 送TA红花 TA的回帖

leongoall

专家顾问 (知名作家)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
引用回帖:
7楼: Originally posted by miaobotong at 2013-06-19 07:07:27
我用氩气，铝靶或铜靶，在硅片上镀膜。另外，我想请问一下，对于不同的靶材，用相同的仪器，镀膜速率相同吗？...

不同的靶材，镀膜速率当然不同！因为氩离子在轰击不同靶材的表面时，很多参数都跟着变，如溅射能量、反射系数等！
赞一下 回复此楼
8楼2013-06-20 02:09:03
已阅   回复此楼   关注TA 给TA发消息 送TA红花 TA的回帖
查看全部 14 个回答

南大仪器

木虫 (小有名气)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
磁控溅射方面也想学习哈子！
赞一下 回复此楼
3楼2013-06-18 22:36:57
已阅   回复此楼   关注TA 给TA发消息 送TA红花 TA的回帖

leongoall

专家顾问 (知名作家)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
1. 靶罩是指外面的挡板吗？如果是，请检查镀膜过程中挡板是否成功打开。

2. 40W的射频功率建立起来的靶上的偏压是多少？是否确定溅射能够发生？
赞一下 回复此楼
4楼2013-06-19 03:16:48
已阅   回复此楼   关注TA 给TA发消息 送TA红花 TA的回帖

miaobotong

铜虫 (小有名气)
引用回帖:
4楼: Originally posted by leongoall at 2013-06-19 03:16:48
1. 靶罩是指外面的挡板吗？如果是，请检查镀膜过程中挡板是否成功打开。

2. 40W的射频功率建立起来的靶上的偏压是多少？是否确定溅射能够发生？

靶罩是在靶材的外面，不是基片挡板，已经起辉了，偏压是600v。但是不知道是什么原因，谢谢您
赞一下 回复此楼
5楼2013-06-19 09:38:46
已阅   回复此楼   关注TA 给TA发消息 送TA红花 TA的回帖
查看全部 14 个回答
普通表情 龙 兔 虎 猫 高级回复 (可上传附件)
信息提示
关闭
请填处理意见
关闭