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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 材料综合 » 材料物理 » 请教一个磁控溅射制备薄膜的问题，用相同功率的直流和射频溅射金属靶效果有什么不同？
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1楼 2013-04-18 09:43:35
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海上柳

金虫 (正式写手)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
送红花一朵
引用回帖:
6楼: Originally posted by wbcui at 2013-04-18 16:40:37
这个你自己试吧
我没做过，不知道。

要使用Zn靶的话，还是RF的好，因为形成ZnO后会敷在靶表面，DC就不行了...

我是新手，请教是不是说用ZnO的陶瓷靶的话，采用直流溅射电源是没办法进行溅射的吗？
谢谢！
赞一下 回复此楼
7楼2013-05-09 15:06:20
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海上柳

金虫 (正式写手)
引用回帖:
8楼: Originally posted by wbcui at 2013-05-09 16:33:03
大哥，绝缘靶材不能用直流
只能用RF

所以，如你所说的那样，就没法溅射了，或者能溅射，但出来的成分会变。...

十分感谢！
回复此楼
9楼2013-05-09 16:36:07
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