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北京石油化工学院2026年研究生招生接收调剂公告
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conquertju

金虫 (小有名气)

[求助] 硅表面磁控溅射银

不知道有木有人做这方面内容?最近做实验硅表面用酒精超声波清洗10min,再用HF酸洗一会,之后硅表面出现花纹,磁控溅射后出现脱落,求帮助啊
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conquertju

金虫 (小有名气)

引用回帖:
2楼: Originally posted by cnxhw at 2013-04-15 13:53:31
硅片不干净。用沸腾的硫酸和双氧水煮20分钟左右,用稀释HF漂去自然氧化层,这时候硅片表面就不会粘水。再用丙酮、乙醇、去离子水分别超声,吹干即可。
另外,溅射后脱落可能功率太小,膜太厚了也容易脱落。

谢谢兄台,这个花纹是表面留的水?还是HF酸洗后反应产物?是不是加长HF酸洗时间能好些?
4楼2013-04-15 14:03:12
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cnxhw

木虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

★ ★ ★
感谢参与,应助指数 +1
nofrunolif: 金币+1, 鼓励交流 2013-04-15 16:40:13
conquertju: 金币+2, 有帮助 2013-04-16 17:51:45
硅片不干净。用沸腾的硫酸和双氧水煮20分钟左右,用稀释HF漂去自然氧化层,这时候硅片表面就不会粘水。再用丙酮、乙醇、去离子水分别超声,吹干即可。
另外,溅射后脱落可能功率太小,膜太厚了也容易脱落。
2楼2013-04-15 13:53:31
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cnxhw

木虫 (小有名气)

补充一下,用HF漂后,硅片表面很干净,完全是硅的灰色。
3楼2013-04-15 13:59:58
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yswyx

专家顾问 (著名写手)


【答案】应助回帖

感谢参与,应助指数 +1
1. 硅片直接溅射银本来就容易脱离,一般要用Cr,Ti,Ni之类的金属做过渡层。
2. 清洗用RCA的方法清洗最干净。酒精和超声波对于溅射这样的工艺,只能越洗越脏。如果是免洗片,真空包装的,不需要洗。如果是非免洗的片子,最好找有条件的超净环境,做RCA清洗。至少硫酸+双氧水煮片子是要做的。
3. HF酸是去除表面氧化层的,出现花纹,要么是氧化层去除的不够干净,要么是时间太长已经腐蚀硅了。

另外,你的硅片是从哪儿买的?
5楼2013-04-15 17:18:44
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