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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 功能材料 » 半导体 » 硅表面磁控溅射银
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conquertju

金虫 (小有名气)

[求助] 硅表面磁控溅射银

不知道有木有人做这方面内容？最近做实验硅表面用酒精超声波清洗10min，再用HF酸洗一会，之后硅表面出现花纹，磁控溅射后出现脱落，求帮助啊
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1楼 2013-04-15 11:30:31
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cnxhw

木虫 (小有名气)
补充一下，用HF漂后，硅片表面很干净，完全是硅的灰色。
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3楼2013-04-15 13:59:58
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cnxhw

木虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

★ ★ ★
感谢参与，应助指数 +1
nofrunolif: 金币+1, 鼓励交流 2013-04-15 16:40:13
conquertju: 金币+2, ★有帮助 2013-04-16 17:51:45
硅片不干净。用沸腾的硫酸和双氧水煮20分钟左右，用稀释HF漂去自然氧化层，这时候硅片表面就不会粘水。再用丙酮、乙醇、去离子水分别超声，吹干即可。
另外，溅射后脱落可能功率太小，膜太厚了也容易脱落。
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2楼2013-04-15 13:53:31
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conquertju

金虫 (小有名气)
引用回帖:
2楼: Originally posted by cnxhw at 2013-04-15 13:53:31
硅片不干净。用沸腾的硫酸和双氧水煮20分钟左右，用稀释HF漂去自然氧化层，这时候硅片表面就不会粘水。再用丙酮、乙醇、去离子水分别超声，吹干即可。
另外，溅射后脱落可能功率太小，膜太厚了也容易脱落。

谢谢兄台，这个花纹是表面留的水？还是HF酸洗后反应产物？是不是加长HF酸洗时间能好些？
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4楼2013-04-15 14:03:12
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yswyx

专家顾问 (著名写手)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
1. 硅片直接溅射银本来就容易脱离，一般要用Cr,Ti,Ni之类的金属做过渡层。
2. 清洗用RCA的方法清洗最干净。酒精和超声波对于溅射这样的工艺，只能越洗越脏。如果是免洗片，真空包装的，不需要洗。如果是非免洗的片子，最好找有条件的超净环境，做RCA清洗。至少硫酸＋双氧水煮片子是要做的。
3. HF酸是去除表面氧化层的，出现花纹，要么是氧化层去除的不够干净，要么是时间太长已经腐蚀硅了。

另外，你的硅片是从哪儿买的？
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5楼2013-04-15 17:18:44
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