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risktaker111金虫 (正式写手)
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[求助]
磁控溅射 镍薄膜 直流 交流 电源
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| 如题，本人最近用磁控溅射在硅衬底上镀Ni薄膜，但是用直流电源时，功率无法调节，基本上加上电源，功率就恒定了，电流表数值很小，电压表数值7Kv左右固定，怎么调，功率都不变？什么原因！ 其次，用交流电源时，功率可以调节了，但是淀积速率太慢，2h，150w功率，2Pa，才30nm左右？谁做过类似的实验，请指教！ |
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【答案】应助回帖
★ ★ ★ ★ ★
risktaker111: 金币+5, 博学EPI+1, ★★★很有帮助 2013-03-12 20:11:18
risktaker111: 金币+5, 博学EPI+1, ★★★很有帮助 2013-03-12 20:11:18
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铁，钴，镍是导磁材料，装上镍靶后靶面磁场减弱，不容易起辉，或起辉后溅射速度变慢。 可以采用薄靶材和强磁场的磁路布局方式解决问题。 https://bbs.chinesevacuum.com/dispbbs.asp?boardid=34&id=34487 |
2楼2013-03-12 11:17:38
fengzi枫紫
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3楼2013-04-24 08:53:37
