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god1999

金虫 (小有名气)

[求助] 关于磁控溅射的问题

我想问一下有关于磁控溅射的基体温度和退火温度是一个意思吗?如果不是,那分别代表什么意思呢?我知道基体温度是在溅射中给基体加的温度。那么退火温度是什么呢?
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Jackcd12

至尊木虫 (知名作家)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★ ★
感谢参与,应助指数 +1
yanbo1986: 金币+3, 感谢应助。 2013-01-29 10:59:13
god1999: 金币+3 2013-01-29 16:42:29
为了改善薄膜的性质,很多溅射、蒸发制备的薄膜都采用了热处理(退火)的步骤,这一步是在薄膜沉积完后进行的。其主要目的包括:提高沉积膜在基板的附着力,生长某种结晶面等。
Themoreamanlearns,themoreheknowshisignorance!
2楼2013-01-29 10:50:15
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johngolden

金虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

★ ★ ★
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god1999: 金币+3, ★★★很有帮助, 谢谢,很有帮助 2013-01-29 16:41:32
基体温度和退火温度不是一个意思。基体温度(substrate temperature)是指在生长过程中加的温度。所加温度为生长时间。而退火温度是(post annealing)温度。顾名思义,是生长结束后加的。因为是后处理,时间和温度可以选择自由度很大。有一种比较特殊的所谓 Rapid thermal annealing,通过高温,很短时间里达到后处理,局部结晶的效果。
3楼2013-01-29 14:03:08
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johngolden

金虫 (小有名气)

给个金币吧
4楼2013-01-29 14:03:57
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god1999

金虫 (小有名气)

引用回帖:
3楼: Originally posted by johngolden at 2013-01-29 14:03:08
基体温度和退火温度不是一个意思。基体温度(substrate temperature)是指在生长过程中加的温度。所加温度为生长时间。而退火温度是(post annealing)温度。顾名思义,是生长结束后加的。因为是后处理,时间和温度可 ...

这个后处理的温度一般加多少度呢?我的是Si-Ti复合材料,我的基体温度在290摄氏度,
新手,求帮助
5楼2013-01-29 16:41:08
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god1999

金虫 (小有名气)

引用回帖:
2楼: Originally posted by Jackcd12 at 2013-01-29 10:50:15
为了改善薄膜的性质,很多溅射、蒸发制备的薄膜都采用了热处理(退火)的步骤,这一步是在薄膜沉积完后进行的。其主要目的包括:提高沉积膜在基板的附着力,生长某种结晶面等。

一般这个后处理的温度以什么为标准呢?
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6楼2013-01-29 16:42:22
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黄瓜一样冰凉

金虫 (小有名气)

引用回帖:
6楼: Originally posted by god1999 at 2013-01-29 16:42:22
一般这个后处理的温度以什么为标准呢?...

没什么标准。你的处理温度根据自己的的薄膜材料,结构,厚度而定。
7楼2013-01-29 17:20:37
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Jackcd12

至尊木虫 (知名作家)

【答案】应助回帖

6楼说得对,根据你的目的和材料性质而定温度和保温时间。
Themoreamanlearns,themoreheknowshisignorance!
8楼2013-01-29 20:21:37
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