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北京石油化工学院2026年研究生招生接收调剂公告
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真空涨落

木虫 (小有名气)

[求助] 紫外光刻厚胶,用于掩蔽

工艺需要4微米左右的厚胶就好了,图形是3-4微米间隔。我光刻的成了碗型。使用胶i7010正胶(好像是AZ的)
有什么好方法可以使侧壁陡直?包括前烘,曝光,显影,后烘等等,甚至浸泡二甲苯。。。
谢谢各位大神啦

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物含妙理总堪寻
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xuanyaliudon

新虫 (初入文坛)

本帖内容被屏蔽

10楼2013-05-14 10:08:06
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真空涨落

木虫 (小有名气)

顶一下,怎么没人回复。。。
物含妙理总堪寻
2楼2012-12-01 21:33:27
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yswyx

专家顾问 (著名写手)


【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
真空涨落: 金币+10, 谢谢,每次都是您帮我。 2012-12-05 07:32:43
为什么不用hard mask来加一层掩蔽,这样不就可以用比较薄的胶来做工艺了啊。比如你长一层金属或者是SiO,然后再用高分辨率的光刻胶,比如我们的i1000,然后吧SiO窗口打开,然后再做注入。打开窗口你可以用RIE,相对比较陡直。这样的话就不用扣光刻工艺了,高分辨率胶得到的垂直结果肯定比厚胶要好很多啊。
i7010是稻化学的,以前是shipley。
4楼2012-12-04 14:44:19
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quanten

金虫 (著名写手)

QQ群(NW-FET): 157220400


【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★
真空涨落: 金币+5, ★★★很有帮助, 谢谢,我会试试 2012-12-05 07:32:18
考虑延长曝光时间或者延长显影时间
5楼2012-12-04 23:22:10
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