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meganejc新虫 (小有名气)
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【请教】光刻失败后 大家是如何清洗SiO2上的光刻胶的 已有18人参与
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光刻失败了 SiO2片还想用。 我是用紫外光照-显影剂泡-丙酮-酒精-水 来清洗 但是之后再做光刻时 光刻胶和SiO2粘附不牢 很容易漂胶 技术员说这是因为SiO2表面很亲水 请教各位XDJM是怎么清洗和疏水化的 |
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2楼2010-11-03 17:03:06
courage
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3楼2010-11-03 20:43:12
meganejc
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hanjunhao
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6楼2011-03-30 16:37:57
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我也想知道。 我现在用光刻胶做保护膜，没光刻胶以外的区域要用特氟龙做疏水处理。 特氟龙有如下性质： 1、不粘性：几乎所有物质都不与特氟龙涂膜粘合。很薄的膜也显示出很好的不粘附性能。 2、耐热性：特氟龙涂膜具有优良的耐热和耐低温特性。短时间可耐高温到300℃，一般在240℃~260℃之间可连续使用，具有显著的热稳定性，它可以在冷冻温度下工作而不脆化，在高温下不融化。 3、滑动性：特氟龙涂膜有较低的摩擦系数。负载滑动时摩擦系数产生变化，但数值仅在0.05-0.15之间。 4、抗湿性：特氟龙涂膜表面不沾水和油质，生产操作时也不易沾溶液，如粘有少量污垢，简单擦拭即可清除。停机时间短，节省工时并能提高工作效率。 5、耐磨损性：在高负载下，具有优良的耐磨性能。在一定的负载下，具备耐磨损和不粘附的双重优点。 6、耐腐蚀性：特氟龙几乎不受药品侵蚀，可以保护零件免于遭受任何种类的化学腐蚀。 感觉都没办法去掉，有没有做过这方面的。指教一下！ |
7楼2011-03-30 16:53:46
8楼2012-12-17 15:09:44
9楼2013-05-24 20:56:33
10楼2014-03-05 10:11:12
