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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳加工 » 【请教】光刻失败后 大家是如何清洗SiO2上的光刻胶的
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meganejc

新虫 (小有名气)

[交流] 【请教】光刻失败后 大家是如何清洗SiO2上的光刻胶的 已有18人参与

光刻失败了 SiO2片还想用。
我是用紫外光照-显影剂泡-丙酮-酒精-水 来清洗

但是之后再做光刻时 光刻胶和SiO2粘附不牢 很容易漂胶
技术员说这是因为SiO2表面很亲水

请教各位XDJM是怎么清洗和疏水化的
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1楼 2010-11-03 11:17:58
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dugu

木虫 (小有名气)
★
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光刻胶种类繁多，性质各异，楼主是用的哪类？
查下光刻胶的产品说明就知道了。
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书生老去机会方来
2楼2010-11-03 17:03:06
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courage

木虫 (正式写手)
★
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请问楼主你们的硅片在哪买的？谢谢
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3楼2010-11-03 20:43:12
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meganejc

新虫 (小有名气)
在中国光电南京55所买的 二氧化硅片

其实我主要是想问问各位如何做疏水化处理的..就按我目前的洗法其实已经比较干净了~

手动up一下
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4楼2010-11-03 22:48:58
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cangqiong

金虫 (小有名气)
★
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用浓硫酸+双氧水煮一下就可以了
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5楼2010-11-04 11:00:08
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hanjunhao

铜虫 (初入文坛)
★
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我也洗不干净啊，不知道楼主现在是怎么洗干净的？
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盗亦有道
6楼2011-03-30 16:37:57
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420806862

银虫 (小有名气)
★
小木虫(金币+0.5):给个红包，谢谢回帖交流
我也想知道。
我现在用光刻胶做保护膜，没光刻胶以外的区域要用特氟龙做疏水处理。
特氟龙有如下性质：

      1、不粘性：几乎所有物质都不与特氟龙涂膜粘合。很薄的膜也显示出很好的不粘附性能。
　　2、耐热性：特氟龙涂膜具有优良的耐热和耐低温特性。短时间可耐高温到300℃，一般在240℃~260℃之间可连续使用，具有显著的热稳定性，它可以在冷冻温度下工作而不脆化，在高温下不融化。
　　3、滑动性：特氟龙涂膜有较低的摩擦系数。负载滑动时摩擦系数产生变化，但数值仅在0.05-0.15之间。
　　4、抗湿性：特氟龙涂膜表面不沾水和油质，生产操作时也不易沾溶液，如粘有少量污垢，简单擦拭即可清除。停机时间短，节省工时并能提高工作效率。
　　5、耐磨损性：在高负载下，具有优良的耐磨性能。在一定的负载下，具备耐磨损和不粘附的双重优点。
　　6、耐腐蚀性：特氟龙几乎不受药品侵蚀，可以保护零件免于遭受任何种类的化学腐蚀。
感觉都没办法去掉，有没有做过这方面的。指教一下！
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坚持不懈！
7楼2011-03-30 16:53:46
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依然2011

铁虫 (初入文坛)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
可以用浓硫酸煮一下，大约七八十度就可以，煮完吧硅片200摄氏度下烘烤五分钟左右
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8楼2012-12-17 15:09:44
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underdog-82

铁虫 (小有名气)
用双氧水混合浓硫酸试试看 杀伤力很强的


   
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9楼2013-05-24 20:56:33
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niteng

新虫 (初入文坛)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
坑啊！我最近也遇到一样的问题。在长有氧化硅的硅片表面光刻图形，老是掉胶。
1.热氧SiO2的表面和PECVDSiO2表面都掉胶，前者还更严重。
2.涂胶之前，都做过丙酮+乙醇+去离子水清洗，还150℃烘了10min。
3.显影时，刚有图形时，线条还有，后面一晃动硅片，图形就没啦。
请教前辈，遇到过类似问题的朋友指教啊！！！
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水之归下，宁心为上。
10楼2014-03-05 10:11:12
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