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lzb7758520

铁杆木虫 (著名写手)

[求助] 正性光刻胶的去除

在硅片上进行了光刻,采用正性光刻胶(BP212-37),然后在上面去蒸金,我现在想去除光刻胶然后保留光刻位置上的金颗粒,怎么去除该光刻胶,我问过我们所里的做光刻的,他们说用丙酮超生,我想一超生金颗粒不就全部掉了吗?大家不知道有什么办法?谢谢!
图片见附件,我以前没有做过这方面的东西,因此附件中的图片是引用小木虫论坛上的一个帖子的,请原作者不要见怪。


[ Last edited by lzb7758520 on 2012-7-5 at 10:46 ]
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梦想不能当饭吃啊
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jinxiyu

铜虫 (初入文坛)

★ ★
感谢参与,应助指数 +1
lzb7758520: 金币+2, ★★★很有帮助, 谢谢! 2012-07-23 12:59:39
本帖内容被屏蔽

2楼2012-07-05 13:36:25
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lzb7758520

铁杆木虫 (著名写手)

引用回帖:
2楼: Originally posted by jinxiyu at 2012-07-05 13:36:25
这个很简单的工艺。一般IC和LED上工艺都用到了,直接Lift-off.具体作法是:用厚的光刻胶,如Az系列的,旋涂的光刻胶厚度好像有5um,镀1um厚的金,直接超声一下,用手都可以剥离的了,顶多用胶带一下

,我用的是BP212-37正胶,这个可行?在丙酮里面泡吗?超生会不会把金颗粒超掉?
梦想不能当饭吃啊
3楼2012-07-05 14:30:17
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nonononono

银虫 (小有名气)

【答案】应助回帖


感谢参与,应助指数 +1
lzb7758520: 金币+1, ★★★很有帮助, 谢谢! 2012-07-23 13:00:05
蒸渡的膜会比溅射厚很多吧,目测泡不掉。超声确实容易将金炒掉。建议慢慢泡丙酮
nothing is impossible
4楼2012-07-05 16:47:53
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htding

新虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

★ ★
lzb7758520: 金币+2, ★★★很有帮助 2012-07-23 13:00:21
如果是特征尺寸在2-5um的话,可以用丙酮泡3个小时左右,然后用水冲洗;
如果用种子层的话,特征尺寸较大,可以直接丙酮超声,时间视情况而定,一般在1-3分钟左右,然后用酒精和水分别超声1-2分钟。
ding
5楼2012-07-19 11:08:46
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