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光刻曝光之后有的地方有图案，有的地方没有已有1人参与
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最近做光刻，做的是在大面积SiO2衬底上做出微米级的图案，图案均匀分布在衬底表面，可是曝光显影之后发现有的地方有图案而有的地方没有，不知道为何。 甩胶低速５００转／分 ６ｓ；高速２３００转／分 ２０ｓ 前烘：１００度 １０ｍｉｎ 后烘：１２０度 １０ｍｉｎ 曝光时间１５ｓ 显影时间：１ｍｉｎ   |
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 yswyx的关于光刻的各种回复 | 光刻工艺 |
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【答案】应助回帖
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没图案是什么意思？是光刻胶上没有图案，还是光刻胶都不见了？ 前者需要考察光刻胶有没有曝光，主要关系到光刻机。 后者就是漂胶。石英衬底和一般的胶的粘附性不好，需要用HMDS增粘剂来表面改性，然后涂胶。 另外，你只列出了你的光刻工艺条件，并没有列出你的光刻胶名称和型号，所以那些条件通通没有用。而且工艺条件描述的比较不完全，至少要列出设备是什么设备，以及工作模式。 |
2楼2012-12-09 18:23:34
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4楼2012-12-09 19:25:05
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6楼2012-12-10 08:36:46
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9楼2012-12-14 08:49:12
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