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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 功能材料 » 半导体 » 光刻曝光之后有的地方有图案，有的地方没有
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317001626

金虫 (小有名气)

[求助] 光刻曝光之后有的地方有图案，有的地方没有 已有1人参与

最近做光刻，做的是在大面积SiO2衬底上做出微米级的图案，图案均匀分布在衬底表面，可是曝光显影之后发现有的地方有图案而有的地方没有，不知道为何。
甩胶低速５００转／分　６ｓ；高速２３００转／分　２０ｓ
前烘：１００度　１０ｍｉｎ　　后烘：１２０度　１０ｍｉｎ
曝光时间１５ｓ　显影时间：１ｍｉｎ
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yswyx的关于光刻的各种回复 光刻工艺

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1楼 2012-12-09 16:42:34
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yswyx

专家顾问 (著名写手)

【答案】应助回帖

zhaohaixing: 鼓励交流 2012-12-14 09:21:08
引用回帖:
6楼: Originally posted by 317001626 at 2012-12-10 08:36:46
hmds有毒不敢用呢~...

这个就是附着力的问题。一定要用增粘剂。
如果不想用HMDS，那就用AP3000，但是那个很贵，也很不好买。
HMDS其实没什么，自己注意就行了，有通风橱嘛。丙酮酒精还有毒呢，你不是照样用。
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7楼2012-12-10 11:04:44
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yswyx

专家顾问 (著名写手)

【答案】应助回帖

★ ★
感谢参与，应助指数 +1
chemlh: 金币+1, 欢迎积极交流 2012-12-10 08:48:33
nofrunolif: 金币+1, 鼓励专家跨版交流 2012-12-10 09:06:38
没图案是什么意思？是光刻胶上没有图案，还是光刻胶都不见了？
前者需要考察光刻胶有没有曝光，主要关系到光刻机。
后者就是漂胶。石英衬底和一般的胶的粘附性不好，需要用HMDS增粘剂来表面改性，然后涂胶。

另外，你只列出了你的光刻工艺条件，并没有列出你的光刻胶名称和型号，所以那些条件通通没有用。而且工艺条件描述的比较不完全，至少要列出设备是什么设备，以及工作模式。
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2楼2012-12-09 18:23:34
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317001626

金虫 (小有名气)
引用回帖:
2楼: Originally posted by yswyx at 2012-12-09 18:23:34
没图案是什么意思？是光刻胶上没有图案，还是光刻胶都不见了？
前者需要考察光刻胶有没有曝光，主要关系到光刻机。
后者就是漂胶。石英衬底和一般的胶的粘附性不好，需要用HMDS增粘剂来表面改性，然后涂胶。

另 ...

光刻胶：RZJ-340正型光刻胶

光刻机 URE-2000/17 中国科学院光电技术研究所

只有石英边缘有些光刻胶曝光显影后的图案，其他的地方胶都不见了。

我在这块石英片上做毫米级别的图案都很好，但做微米级别的，就出现上述我所说的情况了~~
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3楼2012-12-09 19:18:33
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317001626

金虫 (小有名气)
引用回帖:
2楼: Originally posted by yswyx at 2012-12-09 18:23:34
没图案是什么意思？是光刻胶上没有图案，还是光刻胶都不见了？
前者需要考察光刻胶有没有曝光，主要关系到光刻机。
后者就是漂胶。石英衬底和一般的胶的粘附性不好，需要用HMDS增粘剂来表面改性，然后涂胶。

另 ...

哦，对了~我是接触式曝光~~
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4楼2012-12-09 19:25:05
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