| 查看: 1694 | 回复: 11 | ||||
| 当前只显示满足指定条件的回帖，点击这里查看本话题的所有回帖 | ||||
317001626金虫 (小有名气)
|
[求助]
光刻曝光之后有的地方有图案，有的地方没有已有1人参与
|
|||
|
最近做光刻，做的是在大面积SiO2衬底上做出微米级的图案，图案均匀分布在衬底表面，可是曝光显影之后发现有的地方有图案而有的地方没有，不知道为何。 甩胶低速５００转／分 ６ｓ；高速２３００转／分 ２０ｓ 前烘：１００度 １０ｍｉｎ 后烘：１２０度 １０ｍｉｎ 曝光时间１５ｓ 显影时间：１ｍｉｎ   |
回复此楼» 收录本帖的淘帖专辑推荐
 yswyx的关于光刻的各种回复 | 光刻工艺 |
» 猜你喜欢
博士读完未来一定会好吗
已经有6人回复
-
小论文投稿
已经有3人回复
-
Bioresource Technology期刊，第一次返修的时候被退回好几次了
已经有9人回复
-
心脉受损
已经有3人回复
-
到新单位后，换了新的研究方向，没有团队，持续积累2区以上论文，能申请到面上吗
已经有8人回复
-
申请2026年博士
已经有6人回复
-
请问哪里可以有青B申请的本子可以借鉴一下。
已经有5人回复
» 本主题相关价值贴推荐，对您同样有帮助:
哪位高手帮忙画一个光刻板（掩模板）图纸，简单的阵列结构。
已经有24人回复- 求助：文献中光刻胶线条的截面SEM图（cross-sectional SEM）那种截面是怎么得到的
已经有16人回复
- 用于电子工业的纳米图案化和光刻技术-分成了两个文件
已经有44人回复
 |
9楼2012-12-14 08:49:12
yswyx 
专家顾问 (著名写手)
-
专家经验: +651 - 应助: 807 (博后)
- 贵宾: 0.204
- 金币: 2618.1
- 散金: 6018
- 红花: 112
- 帖子: 2705
- 在线: 577.8小时
- 虫号: 446878
- 注册: 2007-10-30
- 性别: GG
- 专业: 半导体微纳机电器件与系统
- 管辖: 微米和纳米
【答案】应助回帖
★ ★
感谢参与，应助指数 +1
chemlh: 金币+1, 欢迎积极交流 2012-12-10 08:48:33
nofrunolif: 金币+1, 鼓励专家跨版交流 2012-12-10 09:06:38
感谢参与，应助指数 +1
chemlh: 金币+1, 欢迎积极交流 2012-12-10 08:48:33
nofrunolif: 金币+1, 鼓励专家跨版交流 2012-12-10 09:06:38
|
没图案是什么意思？是光刻胶上没有图案，还是光刻胶都不见了？ 前者需要考察光刻胶有没有曝光，主要关系到光刻机。 后者就是漂胶。石英衬底和一般的胶的粘附性不好，需要用HMDS增粘剂来表面改性，然后涂胶。 另外，你只列出了你的光刻工艺条件，并没有列出你的光刻胶名称和型号，所以那些条件通通没有用。而且工艺条件描述的比较不完全，至少要列出设备是什么设备，以及工作模式。 |
2楼2012-12-09 18:23:34
317001626
金虫 (小有名气)
- 应助: 3 (幼儿园)
- 金币: 1124.1
- 散金: 10
- 红花: 2
- 帖子: 127
- 在线: 51小时
- 虫号: 1246967
- 注册: 2011-03-27
- 专业: 金属材料表面科学与工程
3楼2012-12-09 19:18:33
317001626
金虫 (小有名气)
- 应助: 3 (幼儿园)
- 金币: 1124.1
- 散金: 10
- 红花: 2
- 帖子: 127
- 在线: 51小时
- 虫号: 1246967
- 注册: 2011-03-27
- 专业: 金属材料表面科学与工程
4楼2012-12-09 19:25:05