[求助] 光刻曝光之后有的地方有图案，有的地方没有 已有1人参与

最近做光刻，做的是在大面积SiO2衬底上做出微米级的图案，图案均匀分布在衬底表面，可是曝光显影之后发现有的地方有图案而有的地方没有，不知道为何。 甩胶低速５００转／分　６ｓ；高速２３００转／分　２０ｓ 前烘：１００度　１０ｍｉｎ　　后烘：１２０度　１０ｍｉｎ 曝光时间１５ｓ　显影时间：１ｍｉｎ

回复此楼

» 收录本帖的淘帖专辑推荐

yswyx的关于光刻的各种回复

光刻工艺

» 猜你喜欢

• 论文终于录用啦！满足毕业条件了 已经有10人回复
• 2025年遐想 已经有4人回复
• 投稿Elsevier的杂志（返修），总是在选择OA和subscription界面被踢皮球 已经有8人回复
• 自然科学基金委宣布启动申请书“瘦身提质”行动 已经有4人回复
• 求个博导看看 已经有18人回复

» 本主题相关价值贴推荐，对您同样有帮助:

• 哪位高手帮忙画一个光刻板（掩模板）图纸，简单的阵列结构。 已经有24人回复
• 求助：文献中光刻胶线条的截面SEM图（cross-sectional SEM）那种截面是怎么得到的 已经有16人回复
• 用于电子工业的纳米图案化和光刻技术-分成了两个文件 已经有44人回复