【请教】光刻失败后大家是如何清洗SiO2上的光刻胶的 - 微米和纳米 - 微纳加工 - 第2页小木虫论坛-学术科研互动平台

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wangpeng1984

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引用回帖:

10楼: Originally posted by niteng at 2014-03-05 10:11:12
坑啊！我最近也遇到一样的问题。在长有氧化硅的硅片表面光刻图形，老是掉胶。
1.热氧SiO2的表面和PECVDSiO2表面都掉胶，前者还更严重。
2.涂胶之前，都做过丙酮+乙醇+去离子水清洗，还150℃烘了10min。
3.显影时 ...

显影时间过长，或者烘烤温度偏低，但是150度已经不低了，是不是你的这个胶需要的烘烤温度更高呢？还有很可能是烤盘脏了，需要好好清理下，你的实际温度也许离设定温度150度还远着呢。

11楼2014-04-03 16:14:52

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190279408

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sio2上的光刻胶很好去的，当然有的时候光刻返工的不容易完全去干净

sio2衬底，则标准RCA清洗可以解决这个问题，若怕胶掉，涂胶前前烘一下，160度以上烘几分钟，若还怕浮胶可以在涂胶前先蒸或涂一层HMDS，便可解决胶与衬底之间的粘连问题

12楼2014-04-12 23:22:13

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song12345678

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光刻失败之后，估计得重新烘片子了，200度太低了，得在600~800度，之后立即去光刻，应该没问题了

13楼2014-06-09 10:29:39

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joy_zheng

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二氧化硅粘胶不牢有可能是因为吸水造成的...以前遇到过这个问题，其实就是光刻之前确保片子烘干会好很多

14楼2014-09-09 00:07:03

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spiderman504

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一般清洗烘干后，要旋涂HMDS，这是大家普遍采用的方法，用来表面改性。

由于您的签名过于个性，小木虫暂时无法显示。。。

15楼2014-09-09 09:53:51

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猪胖胖

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先用丙酮超声10分钟，后用酒精超声10分钟，就可以去掉光刻胶。

不忘初心，方得始终

16楼2015-03-28 16:38:50

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笨豆豆z

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用HMDS处理下就好了。

17楼2015-07-22 17:06:46

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yuanxin5254

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你在热板上高温烘烤时间长点，半小时，一小时都可以，温度最好是120以上，然后冷却后立马就涂胶试试。

我们坚持做一件事情，并不是这样做了有效果，而是坚信，这样做了是对的。

18楼2015-07-24 18:39:02

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yuanxin5254

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如果是烘箱，温度调到很高，烘个两小时

我们坚持做一件事情，并不是这样做了有效果，而是坚信，这样做了是对的。

19楼2015-07-24 18:39:51

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hubuyy

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我都是直接泡在丙酮里面，泡了好几天，就泡干净了

20楼2015-07-24 22:11:08

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