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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳加工 » 【请教】光刻失败后 大家是如何清洗SiO2上的光刻胶的
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wangpeng1984

银虫 (初入文坛)
★
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引用回帖:
10楼: Originally posted by niteng at 2014-03-05 10:11:12
坑啊！我最近也遇到一样的问题。在长有氧化硅的硅片表面光刻图形，老是掉胶。
1.热氧SiO2的表面和PECVDSiO2表面都掉胶，前者还更严重。
2.涂胶之前，都做过丙酮+乙醇+去离子水清洗，还150℃烘了10min。
3.显影时 ...

显影时间过长，或者烘烤温度偏低，但是150度已经不低了，是不是你的这个胶需要的烘烤温度更高呢？还有很可能是烤盘脏了，需要好好清理下，你的实际温度也许离设定温度150度还远着呢。
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11楼2014-04-03 16:14:52
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190279408

金虫 (初入文坛)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
sio2上的光刻胶很好去的，当然有的时候光刻返工的不容易完全去干净

sio2衬底，则标准RCA清洗可以解决这个问题，若怕胶掉，涂胶前 前烘一下，160度以上 烘几分钟 ，若还怕浮胶 可以在涂胶前先蒸 或涂一层HMDS，便可解决胶与衬底之间的粘连问题
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12楼2014-04-12 23:22:13
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song12345678

铜虫 (初入文坛)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
光刻失败之后，估计得重新烘片子了，200度太低了，得在600~800度，之后立即去光刻，应该没问题了
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13楼2014-06-09 10:29:39
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joy_zheng

铜虫 (初入文坛)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
二氧化硅粘胶不牢有可能是因为吸水造成的...以前遇到过这个问题，其实就是光刻之前确保片子烘干会好很多
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14楼2014-09-09 00:07:03
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spiderman504

金虫 (小有名气)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
一般清洗烘干后，要旋涂HMDS，这是大家普遍采用的方法，用来表面改性。
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由于您的签名过于个性，小木虫暂时无法显示。。。
15楼2014-09-09 09:53:51
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猪胖胖

铜虫 (初入文坛)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
先用丙酮超声10分钟，后用酒精超声10分钟，就可以去掉光刻胶。
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不忘初心，方得始终
16楼2015-03-28 16:38:50
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笨豆豆z

银虫 (初入文坛)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
用HMDS处理下就好了。
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17楼2015-07-22 17:06:46
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yuanxin5254

金虫 (正式写手)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
你在热板上高温烘烤时间长点，半小时，一小时都可以，温度最好是120以上，然后冷却后立马就涂胶试试。
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我们坚持做一件事情，并不是这样做了有效果，而是坚信，这样做了是对的。
18楼2015-07-24 18:39:02
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yuanxin5254

金虫 (正式写手)
如果是烘箱，温度调到很高，烘个两小时
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我们坚持做一件事情，并不是这样做了有效果，而是坚信，这样做了是对的。
19楼2015-07-24 18:39:51
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hubuyy

金虫 (小有名气)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
我都是直接泡在丙酮里面，泡了好几天，就泡干净了
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20楼2015-07-24 22:11:08
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