氧化铟薄膜XRD测试
用旋涂做了无掺杂氧化铟薄膜,厚度大概200nm左右,没有掠角XRD,就用了siemens D5005粉末衍射仪测了XRD,步长0.02度,每个点停留4秒,得到了如图所示图谱,峰整体向小角移动,高斯拟合之后算出来大概位移0.3度。玻璃样品放进样品台之后表面比样品台凹槽表面高度低不少,但是据说如果这样的话应该是向大角移动。求解释啊?
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用旋涂做了无掺杂氧化铟薄膜,厚度大概200nm左右,没有掠角XRD,就用了siemens D5005粉末衍射仪测了XRD,步长0.02度,每个点停留4秒,得到了如图所示图谱,峰整体向小角移动,高斯拟合之后算出来大概位移0.3度。玻璃样品放进样品台之后表面比样品台凹槽表面高度低不少,但是据说如果这样的话应该是向大角移动。求解释啊?
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薄膜内存在拉应力会造成晶面指数变大,表现为向小角移动,但你的做法还无法确定移动的原因。为了测试准确建议你把膜刮下来研细后压片测试
多谢指教!还有别的方法不?表面一层就一点点,再说也很难刮
你的情况有两种原因:
1)系统误差,这需要较正系统的角度
2)薄膜因为残余应力,晶格常数有一些变化,这在薄膜中是非常正常的
这样吧,你的是薄膜样品,表面还是很平整的,可以用橡皮泥什么的把你的样品垫高到与样品台平行,为了排除系统误差影响,你可以找一个标样测试一下看看是否有偏移
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恩,多谢,正准备这么做
你好,我想问一下,你的氧化铟薄膜是怎么制备的呢,我查阅的都是做成粉末状的呢。能提供一下方法吗,谢谢