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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 功能材料 » 测试表征 » 氧化铟薄膜XRD测试
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鹰羽龙

木虫 (著名写手)

[求助] 氧化铟薄膜XRD测试

用旋涂做了无掺杂氧化铟薄膜，厚度大概200nm左右，没有掠角XRD，就用了siemens D5005粉末衍射仪测了XRD，步长0.02度，每个点停留4秒，得到了如图所示图谱，峰整体向小角移动，高斯拟合之后算出来大概位移0.3度。玻璃样品放进样品台之后表面比样品台凹槽表面高度低不少，但是据说如果这样的话应该是向大角移动。求解释啊?

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1楼 2012-10-02 10:22:55
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bazhuayuyu

木虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
感谢参与，应助指数 +1
chemlh: 金币+1, 感谢积极交流 2012-10-03 08:26:00
nofrunolif: 金币+15, 代楼主奖励 2012-10-05 20:54:41
薄膜内存在拉应力会造成晶面指数变大，表现为向小角移动，但你的做法还无法确定移动的原因。为了测试准确建议你把膜刮下来研细后压片测试
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2楼2012-10-02 19:18:51
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鹰羽龙

木虫 (著名写手)
引用回帖:
2楼: Originally posted by bazhuayuyu at 2012-10-02 19:18:51
薄膜内存在拉应力会造成晶面指数变大，表现为向小角移动，但你的做法还无法确定移动的原因。为了测试准确建议你把膜刮下来研细后压片测试

多谢指教！还有别的方法不？表面一层就一点点，再说也很难刮
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3楼2012-10-02 20:53:50
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wu1008

金虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
感谢参与，应助指数 +1
chemlh: 金币+1, 感谢积极交流 2012-10-03 08:26:14
鹰羽龙: 金币+30, ★★★很有帮助, 18 2012-10-04 19:27:45
你的情况有两种原因：
1）系统误差，这需要较正系统的角度
2）薄膜因为残余应力，晶格常数有一些变化，这在薄膜中是非常正常的
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4楼2012-10-03 00:46:54
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bazhuayuyu

木虫 (著名写手)
引用回帖:
3楼: Originally posted by 鹰羽龙 at 2012-10-02 20:53:50
多谢指教！还有别的方法不？表面一层就一点点，再说也很难刮...

这样吧，你的是薄膜样品，表面还是很平整的，可以用橡皮泥什么的把你的样品垫高到与样品台平行，为了排除系统误差影响，你可以找一个标样测试一下看看是否有偏移。
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5楼2012-10-05 15:10:34
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鹰羽龙

木虫 (著名写手)
引用回帖:
5楼: Originally posted by bazhuayuyu at 2012-10-05 15:10:34
这样吧，你的是薄膜样品，表面还是很平整的，可以用橡皮泥什么的把你的样品垫高到与样品台平行，为了排除系统误差影响，你可以找一个标样测试一下看看是否有偏移。...

恩，多谢，正准备这么做
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6楼2012-10-05 16:04:35
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新一轮的努力

银虫 (初入文坛)
你好，我想问一下，你的氧化铟薄膜是怎么制备的呢，我查阅的都是做成粉末状的呢。能提供一下方法吗，谢谢
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努力才能无悔
7楼2013-06-22 11:58:13
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