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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 专业学科区 » 物理 » 凝聚态物理 » 磁控溅射制备的铁单质薄膜的铁磁性很弱
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wuyou2013

铁虫 (小有名气)

[求助] 磁控溅射制备的铁单质薄膜的铁磁性很弱 已有3人参与

如题，请问磁控溅射镀制磁性薄膜需要注意什么？
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大家好！
1楼 2015-06-14 12:01:41
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wuyou2013

铁虫 (小有名气)
请问磁控溅射磁性材料，靶头与基底之间需要距离多少？是得经过退火之后才能会有铁磁性么？
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大家好！
2楼2015-06-14 12:31:53
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leongoall

专家顾问 (知名作家)

P-M-I之初生牛犊
你做什么材料，用什么溅射条件等基本信息难道都是国家机密么？
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趁年轻，多折腾！曾年轻，折腾过？！
3楼2015-06-14 18:57:15
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wuyou2013

铁虫 (小有名气)
引用回帖:
3楼: Originally posted by leongoall at 2015-06-14 18:57:15
你做什么材料，用什么溅射条件等基本信息难道都是国家机密么？

嘿嘿，不是，我做的是铁单质金属膜，采用的是直流磁控溅射，强磁靶头，本底真空度1.5e-3 Pa，工作压强1 Pa，Ar气流量是30sccm，功率是70W，溅射了20min，靶基距9cm左右，我的靶头的倾斜角度是固定了，没法变，与基板夹角大概50度。初次发帖子，让大侠见笑了，哈哈！
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大家好！
4楼2015-06-14 19:11:40
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wuyou2013

铁虫 (小有名气)
我做出的铁单质的磁滞回线如图
磁控溅射制备的铁单质薄膜的铁磁性很弱
wuyouCo1.jpg
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大家好！
5楼2015-06-14 19:14:17
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Friend007

银虫 (知名作家)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
引用回帖:
4楼: Originally posted by wuyou2013 at 2015-06-14 19:11:40
嘿嘿，不是，我做的是铁单质金属膜，采用的是直流磁控溅射，强磁靶头，本底真空度1.5e-3 Pa，工作压强1 Pa，Ar气流量是30sccm，功率是70W，溅射了20min，靶基距9cm左右，我的靶头的倾斜角度是固定了，没法变，与基 ...

从楼主的工作参数看，膜厚应该很薄，不知道膜厚是多少。是不是膜厚太薄导致的，楼主有相关文献做参考吗？

[ 发自小木虫客户端 ]
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6楼2015-06-15 07:14:47
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godchenkun

银虫 (正式写手)
引用回帖:
4楼: Originally posted by wuyou2013 at 2015-06-14 19:11:40
嘿嘿，不是，我做的是铁单质金属膜，采用的是直流磁控溅射，强磁靶头，本底真空度1.5e-3 Pa，工作压强1 Pa，Ar气流量是30sccm，功率是70W，溅射了20min，靶基距9cm左右，我的靶头的倾斜角度是固定了，没法变，与基 ...

磁控溅射不太适合做磁性材料的制备吧，会影响磁性材料的沉积，可能是薄膜太薄了
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7楼2015-06-15 08:19:06
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bobrock

木虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
你退火一下就好了。这是因为溅射薄膜很薄，溅射材料的结晶不好。有很多论述。

[ 发自手机版 http://muchong.com/3g ]
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8楼2015-06-16 09:40:45
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huihui2eat

银虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
溅射工艺条件很重要，靶材本身也有一定的影响性，磁性靶材不宜做太厚，太厚了也不容易起辉，溅射也不好的
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9楼2015-06-16 13:57:06
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