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磁控溅射制备的铁单质薄膜的铁磁性很弱
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wuyou2013
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磁控溅射制备的铁单质薄膜的铁磁性很弱
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如题,请问磁控溅射镀制磁性薄膜需要注意什么?
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1楼
2015-06-14 12:01:41
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wuyou2013
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请问磁控溅射磁性材料,靶头与基底之间需要距离多少?是得经过退火之后才能会有铁磁性么?
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2楼
2015-06-14 12:31:53
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你做什么材料,用什么溅射条件等基本信息难道都是国家机密么?
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趁年轻,多折腾!曾年轻,折腾过?!
3楼
2015-06-14 18:57:15
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3楼
:
Originally posted by
leongoall
at 2015-06-14 18:57:15
你做什么材料,用什么溅射条件等基本信息难道都是国家机密么?
嘿嘿,不是,我做的是铁单质金属膜,采用的是直流磁控溅射,强磁靶头,本底真空度1.5e-3 Pa,工作压强1 Pa,Ar气流量是30sccm,功率是70W,溅射了20min,靶基距9cm左右,我的靶头的倾斜角度是固定了,没法变,与基板夹角大概50度。初次发帖子,让大侠见笑了,哈哈!
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4楼
2015-06-14 19:11:40
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我做出的铁单质的磁滞回线如图
wuyouCo1.jpg
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5楼
2015-06-14 19:14:17
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4楼
:
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wuyou2013
at 2015-06-14 19:11:40
嘿嘿,不是,我做的是铁单质金属膜,采用的是直流磁控溅射,强磁靶头,本底真空度1.5e-3 Pa,工作压强1 Pa,Ar气流量是30sccm,功率是70W,溅射了20min,靶基距9cm左右,我的靶头的倾斜角度是固定了,没法变,与基 ...
从楼主的工作参数看,膜厚应该很薄,不知道膜厚是多少。是不是膜厚太薄导致的,楼主有相关文献做参考吗?
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6楼
2015-06-15 07:14:47
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4楼
:
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wuyou2013
at 2015-06-14 19:11:40
嘿嘿,不是,我做的是铁单质金属膜,采用的是直流磁控溅射,强磁靶头,本底真空度1.5e-3 Pa,工作压强1 Pa,Ar气流量是30sccm,功率是70W,溅射了20min,靶基距9cm左右,我的靶头的倾斜角度是固定了,没法变,与基 ...
磁控溅射不太适合做磁性材料的制备吧,会影响磁性材料的沉积,可能是薄膜太薄了
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7楼
2015-06-15 08:19:06
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bobrock
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你退火一下就好了。这是因为溅射薄膜很薄,溅射材料的结晶不好。有很多论述。
[ 发自手机版 http://muchong.com/3g ]
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8楼
2015-06-16 09:40:45
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溅射工艺条件很重要,靶材本身也有一定的影响性,磁性靶材不宜做太厚,太厚了也不容易起辉,溅射也不好的
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9楼
2015-06-16 13:57:06
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