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磁控溅射 未曝光的光刻胶被影响
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| 大家好！请问通过磁控溅射在光刻胶上沉积SiO2,50nm, 未曝光的光刻胶会被辉光等严重影响吗？怎样减少影响效果好些？或是有什么好的工艺可以替代这个工艺？ |
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2楼2014-11-22 21:23:49
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