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磁控溅射 未曝光的光刻胶被影响
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磁控溅射 未曝光的光刻胶被影响
大家好!请问通过磁控溅射在光刻胶上沉积SiO2,50nm, 未曝光的光刻胶会被辉光等严重影响吗?怎样减少影响效果好些?或是有什么好的工艺可以替代这个工艺?
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请问可以通过什么镀膜方法或工艺来保护光刻胶不被影响?
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