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直流磁控溅射中柱状晶的抑制 已有1人参与
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| 前两天直流磁控溅射中做出来的Co，在TEM下观察晶粒尺寸达到10几纳米，也挺均匀，但是会出现柱状晶的现象。具体情况是，我看文献中有为了抑制柱状晶生长而在溅射过程中镀一段时间停一段时间，我在试验中试着镀2min中就停一段时间，然后接着镀，可是Tem照片中还是有明显的柱状倾向啊。而在镀了2min的薄膜中就没有观察到柱状晶。。请问柱状晶的生长模式是什么啊。如果想要足够厚的薄膜而且没有明显的柱状晶生长，该如何做呢？？多谢。。。有柱状晶图片一张 |
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2013-11-12 16:34:58, 10.8 M
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