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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 无机非金属 » 交流探讨 » 直流磁控溅射镀氧化亚铜
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huihuidl

新虫 (初入文坛)

[交流] 直流磁控溅射镀氧化亚铜

用直流磁控溅射镀氧化亚铜，开始挺好的。后来发现实验重复性很差，再后来是薄膜掉渣，参数什么的都没变，不知道怎么回事。中间发现靶心变黑了，用砂纸打磨，溅射后还是不行，哪位遇见过类似的情况的，请帮忙提点建议！谢谢！
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1楼 2013-07-15 10:09:38
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历阳遗老

新虫 (初入文坛)
★
huihuidl(金币+1): 谢谢参与
会不会是真空度不够就开始通气溅射了？
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9楼2013-07-16 11:25:49
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xqbeyond

木虫 (著名写手)
★
huihuidl(金币+1): 谢谢参与
楼主，什么时候再镀，能否帮忙打几片样？
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2楼2013-07-15 15:32:25
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平底锅2013

铁虫 (小有名气)
★
huihuidl(金币+1): 谢谢参与
我做氮化钛靶材中间也会变黑，不知道是怎么回事。我的是新设备。
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3楼2013-07-15 16:45:13
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wiseroy

木虫 (著名写手)
★
huihuidl(金币+1): 谢谢参与
1、靶材一定要接触好；
2、氧气气氛控制好；
3、薄膜掉渣就是结合力不行，而且可能没连成一片
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5楼2013-07-15 20:01:53
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