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miaobotong

铜虫 (小有名气)

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[交流] 关于金属靶磁控溅射问题

我在用射频磁控溅上金属膜时，基材是单晶硅，功率40w，但是镀不上膜，而且靶罩变成了黑色，不知是什么原因？麻烦各位给些建议，谢谢！

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1楼 2013-06-18 16:41:03

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GMS-PVD

新虫 (初入文坛)

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引用回帖:

9楼: Originally posted by leongoall at 2013-06-20 02:11:49
用氩气溅射铝靶或铜靶，我始终想不通前面说靶罩上的黑色是怎么来的，因为如果起辉发生溅射的话，这两种金属无论如何也不会出现黑色的沉积物啊！另外，对于金属靶40W的射频功率能建立其600V的偏压对我来说实在是有点 ...

40W/600V只能说明真空度太低，要么Ar通量太小，要么腔体漏气严重。。。