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[求助] 关于薄膜厚度与溅射功率的问题

用射频磁控溅射制备了PbSe薄膜，结果发现薄膜厚度与溅射功率呈非线性增加（如图），不知是何原因，哪位能帮助解释一下？有没有类似的文献？多谢！

360桌面截图20130515163132.jpg

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1楼 2013-05-15 16:39:00

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qwcmos

铜虫 (小有名气)

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【答案】应助回帖

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foria: 金币+20, ★有帮助, 膜厚用的台阶法测试的，你说得有道理，我准备再测试一下膜厚，谢谢！ 2013-05-16 09:06:19

常理来说，随着power的增加，膜厚应该是呈线性增加的（但这也不是绝对的）。从你做的origin图来看，power增加，膜厚在减少。我就怀疑你的膜厚测量有问题。
首先，膜厚测试方法是否正确，不知你的样品膜厚是多少，是怎么测量膜厚的，SEM？还是台阶法的物理接触测量or白光干涉法。
在保证你的膜厚准确的情况下，再来研究他是线性还是非线性的。