应《网络安全法》要求，自2017年10月1日起，未进行实名认证将不得使用互联网跟帖服务。为保障您的帐号能够正常使用，请尽快对帐号进行手机号验证，感谢您的理解与支持！

24小时热门版块排行榜    

小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳加工 » 紫外光刻厚胶，用于掩蔽
51/1返回列表
查看: 1747  |  回复: 9
只看楼主 @他人 存档 新回复提醒 (忽略) 收藏    在APP中查看
当前只显示满足指定条件的回帖，点击这里查看本话题的所有回帖

真空涨落

木虫 (小有名气)

[求助] 紫外光刻厚胶，用于掩蔽

工艺需要4微米左右的厚胶就好了，图形是3-4微米间隔。我光刻的成了碗型。使用胶i7010正胶（好像是AZ的）
有什么好方法可以使侧壁陡直？包括前烘，曝光，显影，后烘等等，甚至浸泡二甲苯。。。
谢谢各位大神啦

SEM照片
回复此楼

» 收录本帖的淘帖专辑推荐

yswyx的关于光刻的各种回复 实验们

» 猜你喜欢

» 本主题相关价值贴推荐，对您同样有帮助:
物含妙理总堪寻
1楼 2012-11-30 07:50:27
已阅   回复此楼   关注TA 给TA发消息 送TA红花 TA的回帖

真空涨落

木虫 (小有名气)
引用回帖:
4楼: Originally posted by yswyx at 2012-12-04 14:44:19
为什么不用hard mask来加一层掩蔽，这样不就可以用比较薄的胶来做工艺了啊。比如你长一层金属或者是SiO，然后再用高分辨率的光刻胶，比如我们的i1000，然后吧SiO窗口打开，然后再做注入。打开窗口你可以用RIE，相对 ...

我们之前是用RIE和ICP SiO2的，可是多工序不说，关键是也不陡直，所以放弃了那个，专门用胶掩蔽的。
赞一下(1人) 回复此楼
物含妙理总堪寻
6楼2012-12-05 07:34:51
已阅   回复此楼   关注TA 给TA发消息 送TA红花 TA的回帖
查看全部 10 个回答

真空涨落

木虫 (小有名气)
顶一下，怎么没人回复。。。
回复此楼
物含妙理总堪寻
2楼2012-12-01 21:33:27
已阅   回复此楼   关注TA 给TA发消息 送TA红花 TA的回帖

yswyx

专家顾问 (著名写手)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
真空涨落: 金币+10, 谢谢，每次都是您帮我。 2012-12-05 07:32:43
为什么不用hard mask来加一层掩蔽，这样不就可以用比较薄的胶来做工艺了啊。比如你长一层金属或者是SiO，然后再用高分辨率的光刻胶，比如我们的i1000，然后吧SiO窗口打开，然后再做注入。打开窗口你可以用RIE，相对比较陡直。这样的话就不用扣光刻工艺了，高分辨率胶得到的垂直结果肯定比厚胶要好很多啊。
i7010是稻化学的，以前是shipley。
赞一下(1人) 回复此楼
4楼2012-12-04 14:44:19
已阅   回复此楼   关注TA 给TA发消息 送TA红花 TA的回帖

quanten

金虫 (著名写手)

QQ群(NW-FET): 157220400

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★
真空涨落: 金币+5, ★★★很有帮助, 谢谢，我会试试 2012-12-05 07:32:18
考虑延长曝光时间或者延长显影时间
赞一下(1人) 回复此楼
5楼2012-12-04 23:22:10
已阅   回复此楼   关注TA 给TA发消息 送TA红花 TA的回帖
查看全部 10 个回答
普通表情 龙 兔 虎 猫
信息提示
关闭
请填处理意见
关闭